Mentor Graphics 增強對TSMC 7納米工藝初期設計開發(fā)和10納米工藝量產的支援

Mentor Graphics公司(納斯達克代碼：MENT)今天宣布，借由完成 TSMC 10 納米FinFET V1.0 認證，進一步增強和優(yōu)化Calibre®平臺和Analog FastSPICE™ (AFS)平臺。除此之外，Calibre 和 Analog FastSPICE 平臺已可應用在基于TSMC 7 納米 FinFET 工藝最新設計規(guī)則手冊 (DRM) 和 SPICE 模型的初期設計開發(fā)和 IP 設計。

為協助共同客戶能準備好使用先進工藝做設計，Mentor 為TSMC 10 納米工藝改進物理驗證工具，加速Calibre nmDRC™ sign-off 工具的運行時間，使其優(yōu)于去年初針對 10 納米精確度進行認證時的工具運行時間。Calibre nmLVS™ 工具已可支持10納米工藝中新的組件參數抽取，以獲取更精準的 SPICE 模型和自熱仿真。同時，Mentor 還提升了Calibre xACT™ 解決方案的寄生參數精確度，并積極改善布局寄生參數抽取流程以滿足 10 納米技術的要求。

Calibre 平臺還可幫助設計工程師提高設計可靠度和可制造性。在為 10 納米工藝電阻和電流密度檢查做了技術的改進后，現在 TSMC倚賴 Calibre PERC™ 可靠性驗證解決方案做可靠度確認。在可制造性設計 (DFM) 方面，Mentor 添加了色彩感知填充和更精密的對齊和間距規(guī)則在Calibre YieldEnhancer 工具的SmartFill 功能中。此外，Mentor 還優(yōu)化了Calibre DESIGNrev™協助芯片最后完工工具、Calibre RVE™ 結果查看器和Calibre RealTime 界面，為設計工程師在多重曝光、版圖布局與電路圖 (LVS) 比較以及電氣規(guī)則檢查 (ERC) 及可靠性驗證方面提供更容易整合和除錯功能。

如今，Mentor 和 TSMC 攜手合作，將 Calibre 平臺的多樣化功能應用至 7 納米FinFET 工藝中。Calibre nmDRC 和 Calibre nmLVS 工具已通過客戶早期設計的驗證。TSMC 和 Mentor 正擴大 SmartFill 和 Calibre 多重曝光功能的使用功能，為 7 納米的工藝需求提供技術支持。

為獲得快速、準確的電路仿真，TSMC 認證AFS 平臺，包含 AFS Mega 電路仿真器可用于TSMC 10 納米 V1.0 工藝。AFS 平臺還通過了最新版 7 納米DRM和 SPICE 可用于早期設計開發(fā)。

為支持10 納米工藝先進的設計規(guī)則，Mentor 增強了包括Olympus-SoC™ 系統在內的布局布線平臺，并且優(yōu)化其結果能與sign-off 參數抽取和靜態(tài)時序分析工具有相關性。這項優(yōu)化也擴展至7 納米工藝。

“我們將繼續(xù)與 Mentor Graphics 合作，提供設計解決方案和服務于我們的共同客戶，幫助他們在 7 納米工藝設計方面獲得成功，” TSMC 設計建構營銷部資深處長 Suk Lee說。“通過攜手合作，我們能支持10 納米設計實現量產。”

“現今杰出的 SoC 設計工程師要能掌握最先進的工藝，需要晶圓代工廠和 EDA 供貨商兩者之間的緊密合作，”Mentor Graphics Design to Silicon 事業(yè)部副總裁兼總經理 Joe Sawicki 表示。“對于 TSMC 在其未來的生態(tài)系統策略上能繼續(xù)利用已經證明具有高質量、高性能和全面性的Mentor 平臺，我們感到非常榮幸。”