東芝推出實現(xiàn)業(yè)界最低插入損耗的智能手機射頻開關(guān)SOI工藝

采用新一代TaRF8工藝制造的樣品將于1月開始提供

東芝公司旗下半導(dǎo)體與存儲產(chǎn)品公司今日宣布研發(fā)新一代TarfSOI™(東芝先進的射頻絕緣體上硅(SOI))工藝—“TaRF8”，該工藝針對射頻(RF)開關(guān)應(yīng)用進行了優(yōu)化，實現(xiàn)了業(yè)界最低[1]插入損耗[2]。采用新工藝制造的SP12T[3]射頻開關(guān)IC適用于智能手機，樣品出貨將于2016年1月啟動。

SP12T為一款用于移動應(yīng)用的傳輸射頻開關(guān)IC，其搭載集成MIPI-RFFE[4]控制器，適用于3GPP GSM、UMTS、W-CDMA、LTE和LTE-Advanced[5]標準。采用東芝新一代工藝—東芝享有專利的、針對射頻開關(guān)進行了優(yōu)化的SOI-CMOS[6]TarfSOI前端工藝—TaRF8制造的產(chǎn)品實現(xiàn)了業(yè)界最低插入損耗(0.32db/2.7GHz)。與使用東芝當前TaRF6工藝制造的產(chǎn)品相比，其插入損耗提高0.1dB，同時保持相同水平的失真特性。

隨著移動通訊趨向于高速率、大容量數(shù)據(jù)傳輸，智能手機等移動設(shè)備所使用的射頻開關(guān)IC需要多端口支持和更高的射頻性能。在這一點上，降低插入損耗是一個尤為重要的因素，因為它降低射頻傳輸功率損耗，可支持移動設(shè)備具備更長的電池續(xù)航時間。

東芝正在研發(fā)利用其內(nèi)部晶圓廠應(yīng)用SOI-CMOS技術(shù)的高性能射頻開關(guān)IC，SOI-CMOS技術(shù)適合于集成模擬和數(shù)字電路。通過處理該生產(chǎn)流程的所有方面，從射頻工藝技術(shù)開發(fā)到射頻開關(guān)芯片的設(shè)計和制造，東芝可以基于其自己的射頻開關(guān)IC產(chǎn)品的研發(fā)結(jié)果反饋迅速改進SOI-CMOS工藝技術(shù)。這種集成器件制造商(IDM)模式讓東芝能夠快速建立適合于實際產(chǎn)品的新工藝技術(shù)并將采用最新工藝技術(shù)制造的產(chǎn)品推向市場。

東芝將繼續(xù)提高其TarfSOI工藝技術(shù)的性能并通過推出領(lǐng)先于其他制造商的尖端技術(shù)產(chǎn)品努力滿足客戶和市場對射頻開關(guān)IC的需求。

Fig.1 Insertion Loss Characteristics of SOI Process “TarfSOI™” for RF Switches

注：

[1]截至2015年11月20日，射頻開關(guān)IC市場。東芝調(diào)查。

[2]當射頻信號通過射頻開關(guān)傳輸時發(fā)生的功率損耗，以分貝(dB)表示

[3]單刀十二擲開關(guān)

[4]一種適用于移動設(shè)備射頻元件控制的串行總線接口規(guī)范，由MIPI(移動通信行業(yè)處理器接口)聯(lián)盟射頻前端(RFFE)工作小組標準化。

[5]由3GPP(第三代合作伙伴計劃)規(guī)定的移動通信標準。

[6]通過利用MOSFET溝道下的絕緣層來降低寄生電容的技術(shù)。SOI：絕緣體上硅

*TarfSOI是東芝公司的商標。