散熱為什么很重要?對(duì)于大多數(shù)半導(dǎo)體應(yīng)用來(lái)說(shuō),快速轉(zhuǎn)移裸片熱量并使熱量散發(fā)到更大的系統(tǒng)中去可以防止硅片上產(chǎn)生熱量高度集中的區(qū)域。硅裸片的典型工作溫度從105℃到150℃,取決于具體的應(yīng)用。在較高溫度時(shí),金屬擴(kuò)
MEMS 日益增加的復(fù)雜性需要設(shè)計(jì)流程允許工程師在構(gòu)造實(shí)際硅片之前模擬整個(gè)制造分布、所有環(huán)境和操作條件的整個(gè)多模系統(tǒng)。這使工程師能夠快速、積極地優(yōu)化設(shè)計(jì),以便最大限度地提高系統(tǒng)準(zhǔn)確性和可靠性,同時(shí)最大限度