臺積電今天宣布,N7+ 7nm+工藝已經(jīng)大批量供應(yīng)給客戶,這是該公司乃至全產(chǎn)業(yè)首個商用EUV極紫外光刻技術(shù)的工藝。 EUV光刻采用波長為10-14nm的極紫外光作為光源,可使曝光波長直接降到13.5n
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