照亮半導(dǎo)體創(chuàng)新之路
英特爾完成全球首臺(tái)ASML High NA EUV光刻機(jī)組裝!
ASML已交付第三代EUV,用于制造2nm芯片!
三星斥資 10 萬億大量采購 ASML 光刻機(jī)
佳能 CEO:納米壓印“光刻機(jī)”無法出口中國!
挑戰(zhàn) EUV!佳能發(fā)布新型 2nm 光刻機(jī)
國產(chǎn)“光刻廠”落地?官方正式回應(yīng)!
臺(tái)積電美國鳳凰城工廠導(dǎo)入第一臺(tái) EUV
ASML 和 IMEC 將合作研發(fā) high-NA EUV 光刻技術(shù)
在日本援助下,美光將在廣島 DRAM 工廠安裝 EUV
基于stm32f4的外部芯片驅(qū)動(dòng)開發(fā)
預(yù)算:¥10000FPGA或CPLD來開發(fā)一個(gè)信號(hào)轉(zhuǎn)換模塊
預(yù)算:¥10000