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俄羅斯宣布自研EUV光刻機：比ASML更便宜、更容易制造！
12月19日消息，據(jù)報道，俄羅斯已公布自主開發(fā)EUV(極紫外光刻)光刻機的路線圖，目標是比ASML的光刻機更便宜、更容易制造。
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可繞過EUV量產(chǎn)5nm！佳能CEO：納米壓印設備無法賣到中國
11月6日消息，據(jù)彭博社報道，佳能公司正計劃將其新的基于“納米壓印”技術的芯片制造設備的價格定為ASML的EUV光刻機的1/10。
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繞過EUV光刻機技術！佳能開始銷售5nm芯片生產(chǎn)設備
10月14日消息，光刻機大廠佳能(Canon)公司近日通過新聞稿宣布，其已經(jīng)開始銷售基于“納米印刷”(Nanoprinted lithography)技術的芯片生產(chǎn)設備 FPA-1200NZ2C。佳能表示，該設備采用不同于復雜光刻技術的方案，可以制造5nm芯片。
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EUV光刻機也賣不動了 臺積電40%訂單被砍
4月17日消息，隨著PC、手機等行業(yè)需求下滑，半導體行業(yè)自從2022年下半年開始牛熊周期轉換，臺積電Q1季度業(yè)務業(yè)績罕見低于預期，現(xiàn)在ASML的EUV光刻機也賣不動了，臺積電被曝砍單40%訂單。
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一臺3億歐元！ASML CEO：High-NA EUV將于2024年出貨
綜合韓聯(lián)社、koreatimes報道顯示，全球光刻機龍頭大廠ASML首席執(zhí)行官溫寧克(Peter Wennink)于今日在韓國首爾召開的一場新聞發(fā)布會上表示，ASML新一代的High-NA EUV光刻機將于2024年開始發(fā)貨，每臺設備的價格將在3億至3.5億歐元之間。
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無需EUV光刻機 我國首條光子芯片產(chǎn)線明年建成：1000倍性能提升
除了硅基芯片之外，光子芯片也是未來的一大重點，其原理跟硅芯片不同，運算速度可提升1000倍以上，而且不依賴先進的光刻機，比如EUV光刻機，因此是各國爭相發(fā)展的新一代信息科技。來自《北京日報》的消息，記者從中科鑫通獲悉，國內(nèi)首條“多材料、跨尺寸”的光子芯片生...
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消費電子砍單潮，臺積電將關閉4臺EUV光刻機！臺積電：維護而已
自今年二季度以來，由于消費類電子市場對于半導體需求持續(xù)下滑，再加上新增晶圓制造產(chǎn)能的陸續(xù)開出，眾多晶圓代工廠的產(chǎn)能利用率都出現(xiàn)了下滑。繼7月有大陸成熟制程晶圓代工廠率先降價10%之后，近日有消息稱，臺灣晶圓代工廠的成熟制程報價也已累計下跌了20%。而計劃明年繼續(xù)漲價的臺積電，目前的先進制程的產(chǎn)能利用率也出現(xiàn)了下滑，甚至開始計劃關閉EUV光刻機來減少產(chǎn)能。
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曝臺積電計劃關閉部分EUV光刻機
EUV光刻機是半導體制造中的核心設備，只有ASML公司才能生產(chǎn)，單臺售價約10億人民幣。價值不菲的光刻機，同時也是個十足的紙老虎，它的耗電量十分驚人，生產(chǎn)一天，大約需要消耗3萬度電左右!工作一年就要消耗1000萬度電。
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在當下的半導體先進制程領域中，三星、英特爾、臺積電三足鼎立，各有千秋
如果說臺積電成功的首要原因是是開創(chuàng)了半導體業(yè)界首個代工的模式，那么，持續(xù)不斷的在邏輯制程上的自主研發(fā)，則是維持臺積電一直成功前行的燃料。從1987年的3微米制程到預計2022年量產(chǎn)的3納米，臺積電平均2年開發(fā)一代新制程，這是臺積電邏輯制程激蕩的35年。
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在當下半導體先進制程領域中，三星、英特爾、臺積電三足鼎立各有千秋
如果說臺積電成功的首要原因是是開創(chuàng)了半導體業(yè)界首個代工的模式，那么，持續(xù)不斷的在邏輯制程上的自主研發(fā)，則是維持臺積電一直成功前行的燃料。從1987年的3微米制程到預計2022年量產(chǎn)的3納米，臺積電平均2年開發(fā)一代新制程，這是臺積電邏輯制程激蕩的35年。
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在韓國擴銷！ASML 將 2025 年韓國 EUV 光刻機銷售額目標擴至 147.5 億歐元
近日，據(jù)韓國科技媒體 ETnews 報道，ASML 將其 2025 年在韓國的極紫外 (EUV) 光刻機銷售目標提高到 20 萬億韓元(約合 147.5 億歐元)。這個數(shù)字是去年的兩倍多。這主要得益于三星電子和 SK 海力士的投資大幅增加。目前主要的光刻機買家就是三星電子和SK海力士了。
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1nm光刻機要來了，每臺售價約20億
眾所周知，在芯片制造過程中，最重要的半導體設備就是光刻機。為什么說他最重要，一方面是因為它占所有制造設備成本的22%左右，同時也占工時的20%左右。
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新一代革命性EUV光刻機提前登場！價格翻番
新一代革命性EUV光刻機提前登場！價格翻番
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1nm時代的EUV光刻機長啥樣？ASML已完成基本設計
本月中旬，在日本東京舉辦了ITF論壇上，與ASML(阿斯麥)合作研發(fā)光刻機的比利時半導體研究機構IMEC公布了3nm及以下制程的在微縮層面技術細節(jié)。
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臺積電被握住咽喉,越來越依賴ASML的EUV光刻機
臺積電是第一家將EUV(極紫外)光刻工藝商用到晶圓代工的企業(yè)，目前投產(chǎn)的工藝包括N7+、N6和N5三代。
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三星今年訂購了9臺EUV光刻機，李在镕跑ASML總部去催貨
作為半導體生產(chǎn)中的重要設備，光刻機不可或缺，尤其是7nm以下先進工藝生產(chǎn)離不開的EUV光刻機，目前全球只有荷蘭ASML公司能夠生產(chǎn)，而臺積電、三星、英特爾等晶圓生產(chǎn)大廠，都有迫切需求，因此這個市場出現(xiàn)了供不應求的局面。據(jù)businesskorea報道，三星電子副會長李在镕正敦促ASML的高管盡早交付三星今年訂購的9臺的EUV光刻機。
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無須EUV光刻機，中芯國際N+1代工藝年底試產(chǎn)
華為被禁之后，國產(chǎn)替代成了半導體企業(yè)關注的重點。作為中國最大，技術最先進的半導體代工廠家，中芯國際被寄予厚望。近日有媒體報道稱，在大規(guī)模量產(chǎn)14nm工藝后，中芯國際的N+1代工藝已經(jīng)進入客戶導入階段，可望于2021年進入量產(chǎn)。對此，中芯國際回應稱，該公司的第一代FinFET 14nm工藝已于2019年第四季度量產(chǎn)，第二代FinFET N+1工藝已經(jīng)進入客戶導入階段，可望于2020年底小批量試產(chǎn)。
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Intel/臺積電/ASML齊捧EUV光刻：捍衛(wèi)摩爾定律
日前，中國國際半導體技術大會（CSTIC）在上海開幕，為期19天，本次會議重點是探討先進制造和封裝。 其中，光刻機一哥ASML（阿斯麥）的研發(fā)副總裁Anthony Yen表示，EUV光刻工具是目前唯一
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SK海力士擬引入EUV光刻機，生產(chǎn)更新進工藝內(nèi)存芯片
據(jù)韓國媒體報道，全球第二大DRAM內(nèi)存供應商SK海力士已經(jīng)在研發(fā)1a nm工藝的內(nèi)存，內(nèi)部代號“南極星”，具體節(jié)點大概在15nm，預計會引入EUV光刻機生產(chǎn)。
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單價超10億元 Intel臺積電三星每年需要多少EUV光刻機？
作為半導體行業(yè)最重要的生產(chǎn)設備，光刻機實在太重要了，整個芯片生產(chǎn)1/3的時間及成本都耗費在光刻上，EUV光刻機更是只有荷蘭ASML一家公司能產(chǎn)，單臺售價超過10億元，這個生意一般人做不了。 半導體工藝
神經(jīng)男
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