1.2億美元一臺(tái)的光刻機(jī)被中國(guó)員工竊密？ASML總裁都忍不住回應(yīng)

消息，近日有外媒報(bào)道稱(chēng)中國(guó)員工竊取荷蘭公司阿斯麥（ASML Holding N.V）商業(yè)機(jī)密并泄露給中國(guó)政府，ASML就是此前中芯國(guó)際購(gòu)買(mǎi)1.2億美元EUV光刻機(jī)的賣(mài)方，幾乎是中芯國(guó)際2017年的全部?jī)衾麧?rùn)，“ASML中國(guó)員工竊密”一事也得到了半導(dǎo)體行業(yè)的廣泛關(guān)注。

圖片來(lái)自ASML官網(wǎng)

了解到，消息出自荷蘭一家當(dāng)?shù)孛襟w（Financieele Dagblad），該媒體報(bào)道稱(chēng)，幾名中國(guó)籍雇員從ASML的美國(guó)子公司竊取商業(yè)機(jī)密，導(dǎo)致ASML虧損數(shù)億美元。

相關(guān)報(bào)道指出，這些中國(guó)籍雇員是ASML公司研發(fā)部員工，有訪問(wèn)ASML美國(guó)圣何塞分公司內(nèi)部網(wǎng)絡(luò)的許可權(quán)，他們利用職務(wù)之便竊取了設(shè)備的源代碼、軟件、公司定價(jià)策略和供內(nèi)部使用的設(shè)備手冊(cè)，并將信息傳遞給ASML的競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手XTAL公司。

那么，XTAL是否真的竊取ASML商業(yè)機(jī)密了呢？起碼從法院判決來(lái)看，確實(shí)是這樣。2018年11月，ASML公司以“盜用商業(yè)機(jī)密”為由將XTAL告上法庭，法院正式裁決，XTAL必須向ASML支付2.33億美元的賠償金，然而一個(gè)月后，XTAL公司即申請(qǐng)破產(chǎn)。

XTAL于2014年在美國(guó)硅谷成立，雖然成立時(shí)間比ASML晚了十幾年，但是由于ASML一家獨(dú)大的市場(chǎng)地位，客戶還是希望有幾家公司同時(shí)競(jìng)爭(zhēng)，比如三星就是XTAL的客戶，不過(guò)顯然XTAL沒(méi)能突破ASML的技術(shù)加商業(yè)壁壘。

在4月11日外交部發(fā)言人陸慷主持的例行記者會(huì)上，有記者問(wèn)到，“荷蘭某財(cái)經(jīng)媒體報(bào)道稱(chēng)，荷蘭半導(dǎo)體業(yè)ASML公司的中方高管竊取該公司商業(yè)機(jī)密，造成公司巨額損失，并稱(chēng)這些技術(shù)被泄露給了中國(guó)政府。中方是否得知此事？對(duì)此有何評(píng)論？”

陸慷答：我們注意到有關(guān)報(bào)道，但不了解你提到的具體情況。實(shí)際上，中國(guó)和荷蘭在科技領(lǐng)域一直保持著良好的合作。我們多次重申，中國(guó)政府高度重視知識(shí)產(chǎn)權(quán)保護(hù)。我們一向要求海外的中國(guó)公民和企業(yè)遵守駐在國(guó)法律。

至于中國(guó)自身，中國(guó)的科技發(fā)展一不靠偷，二不靠搶?zhuān)侵袊?guó)人民用自己的智慧和汗水，辛勤奮斗出來(lái)的。

涉及到芯片和大國(guó)關(guān)系等敏感話題，ASML總裁兼首席執(zhí)行官Peter Wennink也是第一時(shí)間做出回應(yīng)，ASML不同意它曾成為“中國(guó)間諜”的受害者。

“我們?cè)谀撤N程度上是國(guó)家陰謀的受害者的言論是錯(cuò)誤的。事實(shí)是，我們被硅谷的一小部分員工‘搶劫’，他們違反法律以‘損公肥私’。所有這一切都發(fā)生在幾年前。我們自己發(fā)現(xiàn)了這一點(diǎn)，并于2016年立即在公共法庭尋求法律訴訟。在我們于2018年11月官司勝利后，在幾份報(bào)道表明了這一觀點(diǎn)，“Peter Wennink說(shuō)。

ASML官方表示，這些擁有各種國(guó)籍的員工竊取的掩模優(yōu)化軟件，是ASML產(chǎn)品和服務(wù)組合中的一小部分，目的是創(chuàng)建一個(gè)競(jìng)爭(zhēng)產(chǎn)品并將其出售給韓國(guó)現(xiàn)有的ASML客戶（應(yīng)該是三星），XTAL的資金有一部分來(lái)自韓國(guó)。目前尚不清楚2.33億美元的賠償可以從現(xiàn)在破產(chǎn)的XTAL公司收回到什么程度。

“我們反感任何有關(guān)此事件對(duì)ASML在中國(guó)開(kāi)展業(yè)務(wù)有任何影響的建議。有些人恰好是中國(guó)公民，但其他國(guó)家的人也參與其中。我們確實(shí)謹(jǐn)慎地保護(hù)我們的專(zhuān)有知識(shí)，并且對(duì)信息安全非常敏感。我們相信，可以為包括中國(guó)客戶在內(nèi)的所有客戶提供服務(wù)，并幫助他們建立業(yè)務(wù)。最近歐盟與中國(guó)之間的建設(shè)性談判和協(xié)議令中國(guó)加強(qiáng)尊重和保護(hù)非中國(guó)公司的知識(shí)產(chǎn)權(quán)，包括有效的執(zhí)法行動(dòng)，當(dāng)我們看到這些在中國(guó)法律和審判中得到實(shí)現(xiàn)時(shí)，我們對(duì)此感到鼓舞”，溫寧說(shuō)。

ASML官網(wǎng)資料顯示，ASML在16個(gè)國(guó)家的60多個(gè)城市設(shè)有辦事處，總部位于荷蘭Veldhoven，員工超過(guò)23000名。

“生產(chǎn)決定消費(fèi)”，ASML在半導(dǎo)體行業(yè)的地位就是這么不可取代，即便是英特爾、三星和臺(tái)積電也只能等ASML供貨。甚至在ASML的研發(fā)進(jìn)展緩慢時(shí)，三家大廠注資數(shù)十億美元幫助ASML開(kāi)發(fā)EUV光刻工藝及18英寸晶圓，可見(jiàn)光刻機(jī)的門(mén)檻之高。

EUV光刻機(jī)透視圖（摘自ASML官網(wǎng)）

顧名思義，光刻機(jī)就是用光來(lái)刻電路，光刻機(jī)（Mask Aligner) 又名掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，常用的光刻機(jī)是掩膜對(duì)準(zhǔn)光刻，所以叫Mask Alignment System。一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對(duì)準(zhǔn)曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。

Photolithography（光刻） 意思是用光來(lái)制作一個(gè)圖形（工藝），生產(chǎn)集成電路簡(jiǎn)要可以分為三步：

利用模版去除晶圓表面的保護(hù)膜。

將晶圓浸泡在腐化劑中，失去保護(hù)膜的部分被腐蝕掉后形成電路。

用純水洗凈殘留在晶圓表面的雜質(zhì)。

這個(gè)過(guò)程類(lèi)似照片沖印，光線經(jīng)過(guò)鏡頭把景物影象聚焦在膠片上，膠片上的感光劑隨光發(fā)生變化，膠片上受光后變化了的感光劑經(jīng)顯影液顯影和定影形成和景物相反或色彩互補(bǔ)的影象。光刻集成電路的載體成了晶圓，成像變成了電路。

芯片被譽(yù)為工業(yè)石油，光刻機(jī)則被譽(yù)為半導(dǎo)體行業(yè)的明珠，目前ASML已經(jīng)占據(jù)行業(yè)絕對(duì)統(tǒng)治地位，一方面是高端工藝無(wú)人能及，另一方面是市場(chǎng)占有率非常高，尾隨其后的尼康和佳能技術(shù)較之相差一兩代。2017年全球光刻機(jī)總出貨294臺(tái)，ASML出貨198臺(tái)，占有68%的市場(chǎng)份額。更高端的EUV光刻機(jī)方面，ASML占有率100%。

物以稀為貴，2017年ASML單臺(tái)EUV機(jī)平均售價(jià)超過(guò)1億歐元，2018年一季度的售價(jià)更是接近1.2億歐元，但就這樣還是有價(jià)無(wú)市，產(chǎn)能有限

EUV光刻機(jī)中的EUV指的是是波長(zhǎng)13.5nm的極紫外光，普通的DUV光刻機(jī)使用的是193nm的深紫外光，EUV光刻機(jī)可以大幅提升半導(dǎo)體工藝水平，實(shí)現(xiàn)7nm及以下工藝，更重要的，這是半導(dǎo)體摩爾定律能延續(xù)下去的基礎(chǔ)，當(dāng)下摩爾定律并不是芯片設(shè)計(jì)的問(wèn)題，純粹是材料工藝度不達(dá)標(biāo)，ASML能夠提供更精密的設(shè)備，在產(chǎn)業(yè)的幾乎最上游。

按照英特爾的規(guī)劃，EUV光刻機(jī)本來(lái)早在2005年就應(yīng)該投入使用，但是這顯然低估了材料學(xué)的難度，EUV波長(zhǎng)僅有13納米，光線能量和破壞性極高，制程的所有零件、材料，樣樣挑戰(zhàn)工藝極限，機(jī)械動(dòng)作誤差要以皮秒（兆分之一秒）計(jì)。

對(duì)于志在發(fā)展國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體行業(yè)的我國(guó)來(lái)說(shuō)，光刻機(jī)也是必須要突破的一環(huán)，2018年底，國(guó)家重大科研裝備研制項(xiàng)目“超分辨光刻裝備研制”29日通過(guò)驗(yàn)收，該光刻機(jī)由中國(guó)科學(xué)院光電技術(shù)研究所研制，光刻分辨力達(dá)到22納米，結(jié)合雙重曝光技術(shù)后，未來(lái)還可用于制造10納米級(jí)別的芯片。

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