ASML擅自修改英特爾工藝路線圖

12月11日，多家外媒報道ASML在近期的IEEE國際電子設(shè)備會議（IEDM）上，公布了一張英特爾未來10年的工藝路線圖，路線圖顯示英特爾未來將推出7nm、5nm、3nm、2nm和1.4nm工藝。ASML發(fā)言人表示這張圖是英特爾9月在一次光刻會議上展示的，然而英特爾方面表示，這張圖被ASML修改過了。

在ASML公布的圖片中，可以清楚的看到英特爾未來每兩年推出一代新工藝，并在2029年推出1.4nm工藝。而在英特爾提供的原版PPT當(dāng)中，并沒有公布每個年份的制程節(jié)點(diǎn)數(shù)字。

英特爾方面澄清表示，ASML 近期使用的PPT中， 更改了英特爾在今年9月的一次會議上的幻燈片， 造成誤解。

作為英特爾的合作伙伴，ASML理應(yīng)知曉一些英特爾的工藝路線計劃。但ASML在沒有經(jīng)過允許的前提下，擅自更改合作伙伴的PPT并公開展示，這樣的烏龍事件究竟是如何造成的呢？目前尚不得而知。

根據(jù)集微網(wǎng)此前報道，英特爾不僅是ASML的客戶，也是ASML的股東，不過經(jīng)過多次減持，英特爾目前所持的ASML股票數(shù)量已經(jīng)降至3%以下。

從英特爾和ASML公布的這兩版工藝路線圖來看，一致的是，英特爾的確每兩年會推出一代新工藝，所以依然可以看出，英特爾對于未來的工藝研發(fā)充滿信心。

值得一提的是，英特爾目前工藝節(jié)點(diǎn)僅到10nm，而兩張路線圖都顯示英特爾2021年才會使用到EUV設(shè)備，作為EUV設(shè)備的唯一廠商，ASML修改英特爾工藝路線圖并對外展示，是在催英特爾下單嗎？