清華大學(xué)采購(gòu)等離子體刻蝕機(jī):預(yù)算165萬(wàn)
3月29日,清華大學(xué)設(shè)備采購(gòu)信息平臺(tái)發(fā)布了一則等離子體刻蝕機(jī)采購(gòu)項(xiàng)目的公開(kāi)招標(biāo)公告。
本次招標(biāo)將采購(gòu)一套等離子體刻蝕機(jī),預(yù)算165萬(wàn)元人民幣。
據(jù)介紹,該等離子體刻蝕機(jī)將用于刻蝕薄膜鈮酸鋰晶圓,從而加工基于薄膜鈮酸鋰晶圓的電光器件。
技術(shù)指標(biāo)要求:
- 真空系統(tǒng):分子泵抽速≥1300L/s、干泵抽速≥100m3/h;
- 下電極:滿(mǎn)足8英寸(200mm)樣品刻蝕需要,更小樣品或碎片可貼片裝載;
- 軟件和控制系統(tǒng):要求自主版權(quán)的軟件、Windows操作系統(tǒng)軟件;
- 機(jī)臺(tái)工藝能力:主要用于刻蝕薄膜鈮酸鋰材料、介質(zhì)材料等。
等離子刻蝕機(jī),又叫等離子蝕刻機(jī)、等離子平面刻蝕機(jī)、等離子體刻蝕機(jī)、等離子表面處理儀、等離子清洗系統(tǒng)等。
等離子刻蝕是干法刻蝕中最常見(jiàn)的一種形式,其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體,由此產(chǎn)生的電離氣體和釋放高能電子組成的氣體,從而形成了等離子或離子,電離氣體原子通過(guò)電場(chǎng)加速時(shí),會(huì)釋放足夠的力量與表面驅(qū)逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。