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[導(dǎo)讀]芯片產(chǎn)業(yè)已經(jīng)意識(shí)到,依循摩爾定律的工藝微縮速度已經(jīng)趨緩,而產(chǎn)業(yè)界似乎不愿意面對芯片設(shè)計(jì)即將發(fā)生的巨變──從工藝到封裝技術(shù)的轉(zhuǎn)變

芯片產(chǎn)業(yè)已經(jīng)意識(shí)到,依循摩爾定律的工藝微縮速度已經(jīng)趨緩,而產(chǎn)業(yè)界似乎不愿意面對芯片設(shè)計(jì)即將發(fā)生的巨變──從工藝到封裝技術(shù)的轉(zhuǎn)變

消費(fèi)類電子產(chǎn)品和移動(dòng)通信設(shè)備的一個(gè)重要趨勢是朝著更緊湊、更便攜的方向發(fā)展。今天的用戶要求更多功能、更高性能、更高速度和更小尺寸的解決方案;而軟件系統(tǒng)和數(shù)以十億計(jì)的聯(lián)網(wǎng)設(shè)備正在迅速形成一個(gè)巨大的物聯(lián)網(wǎng)(IoT)。

所有這些力量都在推動(dòng)半導(dǎo)體公司開發(fā)新的先進(jìn)集成電路(IC)封裝技術(shù),以便以日益小型化的封裝提供更高的硅集成度。過去十年,新型封裝技術(shù)不斷涌現(xiàn),如扇出式晶圓級(jí)封裝(FOWLP)、堆疊式IC封裝和復(fù)雜系統(tǒng)級(jí)封裝(system in package,SiP),以及封裝基板、倒裝芯片互連和硅通孔等,技術(shù)進(jìn)步明顯。

所有這些進(jìn)步使得IC封裝密度顯著提高,并為電子產(chǎn)品的研發(fā)打開了新的機(jī)會(huì)。讓我們來看看IC封裝行業(yè)的最新技術(shù)和市場趨勢,以及最先進(jìn)的封裝和解決方案對于開發(fā)尖端產(chǎn)品和保持技術(shù)領(lǐng)先有什么重要意義。

封裝與摩爾定律息息相關(guān)

摩爾定律是一種成功的經(jīng)驗(yàn)預(yù)測,無非是讓IC中晶體管的密度每兩年翻一番。主要由于柵極長度收縮的減緩,晶體管的集成密度在2D處受到了限制,那么,人們就開始用3D繼續(xù)推進(jìn)集成密度。作為3D芯片的堆疊式存儲(chǔ)器就是一個(gè)例子,相同技術(shù)的多層堆疊在一起,進(jìn)一步增加了集成密度。

為什么芯片制造一直在追求先進(jìn)IC封裝?一個(gè)突出目的是為了“超越摩爾定律(Moore than Moore)”。當(dāng)芯片擴(kuò)展在每個(gè)節(jié)點(diǎn)變得越來越困難和昂貴的時(shí)候,工程師們只能將多個(gè)芯片放入先進(jìn)封裝中,作為芯片擴(kuò)展的替代方案。

幾十年來,半導(dǎo)體加工技術(shù)穩(wěn)步地將特征尺寸從幾十微米降到幾納米,有效地使每18個(gè)月組件密度翻了一番。然而,與此同時(shí),設(shè)計(jì)和制造成本上升,臨界利潤率收窄,許多其他挑戰(zhàn)似乎阻礙了進(jìn)一步的進(jìn)展。此外,單個(gè)芯片中晶體管密度的增加在將芯片連接在一起時(shí)產(chǎn)生了問題,例如限制了I/O引腳數(shù)和芯片到芯片互連的速度。

事實(shí)證明,這些限制在人工智能(AI)邊緣和云系統(tǒng)等需要大量高帶寬內(nèi)存的應(yīng)用中問題尤其明顯。為了解決這些問題并繼續(xù)提高組件密度,行業(yè)開發(fā)了幾種先進(jìn)封裝技術(shù),將多個(gè)芯片在一個(gè)緊湊、高性能的封裝中互連,而封裝則作為單個(gè)組件在板上運(yùn)行。

市場需要先進(jìn)IC封裝

對于許多應(yīng)用來說,摩爾定律已不再具有成本效益,尤其是對于異構(gòu)函數(shù)的集成?!俺侥枴?,如多芯片模塊(MCM)和SiP已經(jīng)成為將大量邏輯和存儲(chǔ)器、模擬、MEMS等集成到(子)系統(tǒng)解決方案中的替代方案。然而,這些方法過去和現(xiàn)在都是針對特定客戶的,且需要花費(fèi)大量的開發(fā)時(shí)間和成本。

所謂“超越摩爾”指的是功能密度的增加,即將多種技術(shù)集成到一個(gè)復(fù)合器件中。這可能包括芯片和/或封裝的堆疊;使用多種半導(dǎo)體材料和各種電子布線技術(shù),如球柵陣列(BGA)、硅通孔(TSV)、中間層和引線鍵合。一個(gè)超越摩爾的器件可以通過異構(gòu)集成將來自不同前道制造節(jié)點(diǎn)的邏輯、內(nèi)存、傳感器和天線集成到一個(gè)單獨(dú)的封裝中。

利用先進(jìn)IC封裝“超越摩爾”的方法有很多,這里介紹幾個(gè)主要的技術(shù)。

SiP的普及確保IoT增長

許多人認(rèn)為IoT是第三波技術(shù)浪潮,80年代末90年代初的個(gè)人電腦熱潮是第一波,手機(jī)是第二波。在第三波中,工程師們在前兩次浪潮的經(jīng)驗(yàn)和基礎(chǔ)上,使日常瑣事更加緊密相連。

市場調(diào)研機(jī)構(gòu)Strategy Analytics估算,到2023年,以智能家居為代表的全球IoT市場規(guī)模將達(dá)1570億美元,半導(dǎo)體增量機(jī)會(huì)明顯,封裝技術(shù)將在未來系統(tǒng)開發(fā)中起到推波助瀾的作用。

Amkor Technology高級(jí)產(chǎn)品營銷和業(yè)務(wù)開發(fā)高級(jí)總監(jiān)Vik Chaudhry認(rèn)為,IoT的爆發(fā)推動(dòng)了SiP封裝的普及,使之成為集成IoT解決方案的流行方式,因?yàn)樗鼮橹圃焐烫峁┝藱C(jī)會(huì),可以非??焖俚亟M合不同技術(shù),并通過使用“現(xiàn)成”組件來降低成本。IoT解決方案的尺寸也可以通過集成封裝而減小,從而進(jìn)一步降低成本。

Vik Chaudhry

他解釋說:“IoT封裝要求低成本、良好的功耗(低功耗的硅部分)并支持多種RF標(biāo)準(zhǔn)(如BTLE、Wi-Fi或ZigBee),而且封裝具有良好RF屏蔽。當(dāng)使用傳感器時(shí),基于腔的解決方案很受歡迎,特別是當(dāng)有感知傳遞要求時(shí),例如麥克風(fēng)。IoT封裝還必須生產(chǎn)就緒,因?yàn)樯鲜袝r(shí)間的限制,等待新的定制封裝通常是不可行的。最后,不管解決方案是分立的還是集成的,占用空間必須很小?!?

對IoT應(yīng)用來說,SiP是將傳感器、嵌入式處理器和RF連接集成到一個(gè)小尺寸的完美方式,即傳感器融合,而且,這也給制造商提供了一個(gè)很快將不同技術(shù)結(jié)合起來的機(jī)會(huì),而無需花費(fèi)大量資金購買新的掩模組。除了快速上市外,SiP方法還允許制造商使用現(xiàn)成組件來構(gòu)建解決方案,因?yàn)樗袠?gòu)建塊都已經(jīng)以產(chǎn)品形式存在,所以對工程師來說,重新排列組合就可以輕松獲得天線位置、功耗等方面的最佳性能;還可以利用封裝集成將IoT解決方案的尺寸減少40%。

SiP技術(shù)的優(yōu)勢在于:

融合多種技術(shù)

能夠在一個(gè)封裝中集成多種技術(shù)和組件,例如組合MEMS和CMOS。這種組合對于傳統(tǒng)IC是不可能的。雖然MEMS和CMOS器件有許多相似之處,但也有一些關(guān)鍵區(qū)別。首先是需要一種方法將感知傳遞給MEMS器件,因?yàn)樗鼈儽仨毰c環(huán)境相互作用;其次,MEMS器件的擴(kuò)展方式與CMOS不同工藝的擴(kuò)展方式不同。

采用多種工藝

SiP技術(shù)提供的集成對可穿戴設(shè)備、智能燈或智能家居等應(yīng)用特別有價(jià)值,因?yàn)檫@些產(chǎn)品的空間和尺寸非常重要。從實(shí)際應(yīng)用看,SiP設(shè)計(jì)方案融合了晶圓級(jí)封裝(WLP)、2.5D或3D結(jié)構(gòu)、倒裝芯片(flip-chip)、引線鍵合、封裝體疊層(package-on-package)等工藝;還可以嵌入無源器件、共形屏蔽、濾波器和天線。

典型IoT方案的幾種SiP封裝

融合MEMS傳感器

MEMS傳感器需要與環(huán)境交互以進(jìn)行聲音、光或氣體檢測。使用MEMS封裝通常要從QFN封裝遷移到基于層壓板的封裝。層壓板設(shè)計(jì)可以采用腔基封裝或混合腔封裝,其中封裝的一半是模壓的,另一半是為MEMS器件提供一個(gè)空腔。這種模壓器件更能承受惡劣的環(huán)境。

幾種腔基MEMS封裝

實(shí)現(xiàn)IoT標(biāo)準(zhǔn)化封裝

目前,MEMS、傳感器及IoT器件的封裝設(shè)計(jì)還很零散。設(shè)計(jì)人員希望多個(gè)項(xiàng)目重用相同的封裝,即使這些封裝并不總是與特定應(yīng)用兼容。MEMS、傳感器封裝的標(biāo)準(zhǔn)化將有助于降低成本和加快MEMS的采用,增強(qiáng)制造商將新產(chǎn)品推向市場的信心。

FOWLP實(shí)現(xiàn)極致性能

摩爾定律在工藝技術(shù)上似乎已走到了盡頭,所以先進(jìn)封裝技術(shù)正在接棒,如扇出晶圓級(jí)封裝(FOWLP)就可以提高組件密度和性能,有助于解決芯片I/O限制。不過,成功的關(guān)鍵是從芯片設(shè)計(jì)開始。

現(xiàn)在,F(xiàn)OWLP已經(jīng)在移動(dòng)設(shè)備的批量生產(chǎn)中使用。其封裝過程包括將單個(gè)芯片安裝在稱為重分布層(RDL)的中間層基板上,該層提供芯片之間的互連以及與I/O焊盤的連接,所有這些芯片都封裝在一個(gè)模壓成型中。

所謂扇出封裝,是將連接件扇出到芯片表面,以便實(shí)現(xiàn)更多外部I/O,使用環(huán)氧模壓化合物完全嵌入片芯(die),因此不需要晶圓植球、熔劑、倒裝芯片組裝、清洗、底填料注入和固化等工藝流程。這反過來又消除了中間層,并使異構(gòu)集成的實(shí)現(xiàn)更加簡單。

扇出技術(shù)可以提供比其他封裝類型更多I/O的小尺寸封裝。早在2016年,蘋果就憑借臺(tái)積電(TSMC)的集成扇出(integrated fan-out,InFO)晶圓級(jí)封裝技術(shù),將其16nm A10應(yīng)用處理器與移動(dòng)DRAM集成到iPhone 7內(nèi)部的一個(gè)封裝中,為應(yīng)用處理器提供更好的熱管理。TSMC的InFO使蘋果實(shí)現(xiàn)了非常薄的封裝體疊層(PoP,Package-on-Package)。


TSMC的InFO技術(shù)

InFO平臺(tái)的再分布層技術(shù)將硅片直接連接到PCB層,而無需另一層基板。臺(tái)積電設(shè)計(jì)的互連通孔(TIV)可以提供支柱,使用混合垂直和水平互連技術(shù)連接不同的硅片或組件。InFO體現(xiàn)了其短垂直和長水平連接之間的連接,加速了信息的傳播。

作為對WLP的改進(jìn),F(xiàn)OWLP技術(shù)可以提供更多與硅片芯的外部接點(diǎn)。它將芯片嵌入環(huán)氧模壓料中,然后在晶圓表面制造高密度RDL和錫球,形成一個(gè)重組晶圓。

通常,它首先將前道處理過的晶圓切成單獨(dú)的片芯,然后將片芯在載體結(jié)構(gòu)上隔開,其空隙被填滿形成一個(gè)重組晶圓。FOWLP在封裝和應(yīng)用板之間提供了大量的連接。此外,基板基本上比片芯大,因此片芯間距更為寬松。

傳統(tǒng)多片芯封裝與FOWLP

FOWLP有幾種變體,每種都使用稍有不同的制造步驟。FOWLP組件可以使用模壓優(yōu)先(mold-first)流程創(chuàng)建,片芯面朝下或面朝上安裝,或者使用RDL優(yōu)先(RDL-first)組件。

模壓優(yōu)先方法

片芯使用臨時(shí)粘合層或熱釋放層連接到載體上,然后將其模制到封裝中。如果片芯面朝下安裝,接下來的步驟是釋放臨時(shí)層,連接RDL,形成完成封裝的焊球。如果片芯面朝上安裝,則需要一些附加步驟。

首先,單個(gè)片芯I/O連接必須通過在其上添加銅柱來擴(kuò)展,然后再進(jìn)行二次成型。成型后,嵌條的背面必須接地,在連接RDL和形成焊球之前露出支柱。

RDL優(yōu)先方法

RDL使用臨時(shí)釋放層連接載體,而片芯連接到RDL。然后是組裝成型、載體釋放、焊錫球成型。這兩種方法的最后一步都是將組件分開,使這些組件整體形成單獨(dú)的器件。

FOWLP技術(shù)的兩種方法

這些方法具有不同的成本和性能權(quán)衡。在成本方面,模壓優(yōu)先面朝下方法避免了制作銅柱和研磨,因此制造成本較低;最適合低I/O數(shù)的應(yīng)用;但是,存在著片芯移位、晶圓翹曲等問題,限制了在復(fù)雜多芯片封裝中的應(yīng)用。

面朝上的方法減少了這些問題,并在熱管理方面有優(yōu)勢,因?yàn)樾酒趁嫱耆┞?,有利于散熱?

在性能方面,與其他兩種方法相比,面朝下的方法的連接路徑更短。這兩種方法都有銅柱,可以將連接延伸到RDL,同時(shí)在芯片下有一層材料,增加了連接之間的寄生電容,從而影響了其高頻性能。

2.5D到3D IC封裝的關(guān)鍵是TSV

在2.5D封裝中,片芯采用堆疊或并排放置在基于硅通孔(TSV)的中間層頂部。底部的中間層提供芯片之間的連接。2.5D封裝技術(shù)是傳統(tǒng)2D IC封裝技術(shù)的一個(gè)進(jìn)步,它使跡線和空間更加精細(xì)。

2.5D封裝通常用于高端ASIC、FPGA、GPU和內(nèi)存。2008年,Xilinx將其大型FPGA分成了四個(gè)更小、良率更高的芯片,并將這些芯片連接到一個(gè)硅中間層上,從而誕生了2.5D封裝,最終成為流行的高帶寬內(nèi)存(HBM)處理器集成。

TSV連接的功能完整的3D封裝

在3D IC封裝中,邏輯片芯堆疊在一起,通過銅TSV在硅芯片之間實(shí)現(xiàn)垂直互連,并使用有源中間層連接片芯。與通過導(dǎo)電凸點(diǎn)或TSV將元件堆疊在中間層上的2.5D不同,3D IC封裝采用多層硅晶圓并通過TSV將元件堆疊在一起。

TSV是2.5D和3D封裝解決方案中的一項(xiàng)關(guān)鍵技術(shù),它提供了一種穿過片芯硅晶圓的垂直互連。這種封裝是以晶圓形式制造的,里面填充了銅。TSV是一種穿過芯片整個(gè)厚度或基板延伸的長通孔電氣連接,它創(chuàng)建了從芯片一側(cè)到另一側(cè)的最短路徑。然而,TSV除了自身顯著的電氣特性外,還對其附近的器件和互連的電氣行為產(chǎn)生間接影響。

為了精確地模擬一個(gè)2.5D/3D異構(gòu)系統(tǒng),設(shè)計(jì)者需要從這些2.5D/3D元素的物理結(jié)構(gòu)中提取精確電參數(shù)的工具,然后將這些參數(shù)輸入行為仿真器。利用完整組件裝配的3D數(shù)字孿生模型,設(shè)計(jì)者可以準(zhǔn)確地提取出2.5D和3D模型中的寄生性,以分析性能和適當(dāng)?shù)膮f(xié)議遵從性。

值得注意的是,2.5D和3D堆疊都會(huì)產(chǎn)生各種偶然的物理應(yīng)力,例如在安裝過程中基板翹曲和碰撞引起的應(yīng)力。設(shè)計(jì)人員必須能夠分析這種芯片封裝交互作用引起的應(yīng)力及其對器件性能的影響。一旦封裝接近完成,需要導(dǎo)出精確的3D封裝熱模型,以便在詳細(xì)的PCB和全系統(tǒng)熱分析中使用,進(jìn)而對系統(tǒng)外殼進(jìn)行最終調(diào)整,并優(yōu)化自然和/或強(qiáng)制冷卻。

3D IC封裝的熱仿真

芯粒為3D IC封裝錦上添花

還有一種使用芯粒(chiplet)的3D IC封裝,是由AMD發(fā)明的,臺(tái)積電、英特爾、華為海思都在研究。它可以實(shí)現(xiàn)CMOS器件與非CMOS器件的異構(gòu)集成,或許有助于讓摩爾定律繼續(xù)下去。這個(gè)想法是將一個(gè)大的SoC分解成更小的芯粒,以提高良率和降低成本,同時(shí)提高客戶的可重用性。芯粒模式允許設(shè)計(jì)人員像搭積木一樣制造芯片,利用各種IP而不考慮它們是在哪個(gè)節(jié)點(diǎn)或用什么技術(shù)制造的;它們可以構(gòu)建在各種材料上,包括硅、玻璃和層壓板。


芯粒有望延續(xù)摩爾定律

下一代IC設(shè)計(jì)人才必須懂封裝

美國喬治亞理工學(xué)院(Georgia Tech)教授、超大規(guī)模集成電路(VLSI)數(shù)字暨混合信號(hào)設(shè)計(jì)專家Arijit Raychowdhury表示,先進(jìn)IC設(shè)計(jì)的新疆域在于封裝。

Arijit Raychowdhury

他說:“封裝是一個(gè)設(shè)計(jì)工程師必須了解的?!毕冗M(jìn)IC設(shè)計(jì)的重點(diǎn)已經(jīng)從工藝技術(shù)轉(zhuǎn)向封裝技術(shù),但問題在于“業(yè)界對于這種轉(zhuǎn)移將如何進(jìn)展的了解不夠?!彼J(rèn)為臺(tái)積電是一家在這方面表現(xiàn)得比較好的公司。

他指出:“芯片產(chǎn)業(yè)已經(jīng)意識(shí)到,依循摩爾定律的工藝微縮速度已經(jīng)趨緩,而產(chǎn)業(yè)界似乎不愿意面對芯片設(shè)計(jì)即將發(fā)生的巨變──從工藝到封裝技術(shù)的轉(zhuǎn)變。

現(xiàn)在,晶體管微縮已經(jīng)接近極限,但從技術(shù)上來看,也許微縮演進(jìn)的速度不如我們想的那么快。以內(nèi)存制造技術(shù)或后道工藝晶體管技術(shù)為例,他認(rèn)為還會(huì)有很多新的東西出現(xiàn),產(chǎn)業(yè)界應(yīng)該在這個(gè)特定領(lǐng)域快速行動(dòng)起來,去探討這方面的“黑魔法”。

面對封裝的技術(shù)演進(jìn)和挑戰(zhàn),你準(zhǔn)備好了嗎?

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