ASML否認(rèn)特供版DUV：沒有面向中國(guó)推出特別版光刻機(jī)

日前有報(bào)道稱，ASML將面向中國(guó)市場(chǎng)推出特別版DUV光刻機(jī)，不過此事已經(jīng)辟謠，ASML表示一直以來ASML都遵守所適用的法律條例，公司并沒有面向中國(guó)市場(chǎng)推出特別版的光刻機(jī)。

此前消息稱，ASML推出的特別版DUV光刻機(jī)基于TwinscanNXT:1980Di光刻系統(tǒng)改造，而1980Di是10年前推出的舊型號(hào)，不在本次官方禁令范圍內(nèi)。

1980Di是ASML現(xiàn)有效率比較低的光刻機(jī)，支持NA1.35光學(xué)器件、分辨率可以達(dá)到<38nm，理論上可以支持7nm工藝。

大多數(shù)晶圓廠使用1980Di光刻機(jī)，主要生產(chǎn)14nm及以上工藝芯片，很少使用其生產(chǎn)7nm芯片。

最近荷蘭發(fā)布新規(guī)定，企業(yè)出口先進(jìn)設(shè)備需要申請(qǐng)?jiān)S可，9月1日后生效。

ASML表示，根據(jù)新出口管制條例規(guī)定，該公司需要向荷蘭政府申請(qǐng)出口許可證才能發(fā)運(yùn)最先進(jìn)的浸潤(rùn)式DUV系統(tǒng)(即TWINSCANNXT：2000i及后續(xù)推出的浸潤(rùn)式光刻系統(tǒng))。

荷蘭政府將決定是否授予或拒發(fā)出口許可證，并將向ASML提供許可證所附條件的細(xì)節(jié)。