日本尼康宣布全新ArF浸沒式光刻機：精度小于2.1納米

12月10日消息，尼康宣布，將于2024年1月正式推出ArF 193納米浸沒式光刻機“NSR-S636E”，生產(chǎn)效率、套刻精度都會有進一步提升。

據(jù)悉，尼康這款曝光機采用增強型iAS設(shè)計，可用于高精度測量、圓翹曲和畸變校正，重疊精度(MMO)更高，號稱不超過2.1納米。

分辨率小于38納米，鏡頭孔徑1.35，曝光面積為26x33毫米。

對比當(dāng)前型號，它的整體生產(chǎn)效率可提高10-15%，創(chuàng)下尼康光刻設(shè)備的新高，每小時可生產(chǎn)280片晶圓，停機時間也更短。

尼康還表示，在不犧牲生產(chǎn)效率的前提下，新光刻機可在需要高重疊精度的半導(dǎo)體制造中提供更高的性能，尤其是先進邏輯和內(nèi)存、CMOS圖像傳感器、3D閃存等3D半導(dǎo)體制造，堪稱最佳解決方案。

另據(jù)了解，新光刻機的光源技術(shù)是20世紀(jì)90年代就已經(jīng)成熟的“i-line”，再加上相關(guān)零件、技術(shù)的成熟化，價格將比競品便宜20-30%左右。

不過，目前尚不清楚尼康這款光刻機能制造多少納米的芯片。