光刻膠，我國半導(dǎo)體之殤

芯片對我們國家的發(fā)展具有很重要的意義，但是高精端芯片的發(fā)展離不開光刻機，現(xiàn)如今高端光刻機基本被外國所壟斷。而光刻膠則是光刻機研發(fā)的重要材料，它是一種有機化合物，它被紫外光曝光后，在顯影溶液中的溶解度會發(fā)生變化。硅片制造中所用的光刻膠以液態(tài)涂在硅片表面，而后被干燥成膠膜。

光刻膠特性

1、儲存時間短保質(zhì)期短暫，有效期僅有 90 天;

2、粘附性，光刻膠的粘附性必須經(jīng)受住后續(xù)工藝(刻蝕、離子注入等);

3、抗蝕性，耐熱穩(wěn)定性、抗刻蝕能力和抗離子轟擊能力;

4、表面張力，光刻膠應(yīng)該具有比較小的表面張力，使光刻膠具有良好的流動性和覆蓋。

光刻膠發(fā)展現(xiàn)狀

按照下游應(yīng)用，光刻膠可分為半導(dǎo)體用光刻膠、LCD用光刻膠、PCB用光刻膠等，其技術(shù)壁壘依次降低。相應(yīng)地，PCB光刻膠是目前國產(chǎn)替代進度最快的，LCD光刻膠替代進度相對較快，半導(dǎo)體光刻膠目前國產(chǎn)技術(shù)較國外先進技術(shù)差距最大。

2019年全球光刻膠市場規(guī)模預(yù)計近90億美元，自2010年至今CAGR約5.4%，預(yù)計未來3年仍以年均5%的速度增長，預(yù)計至2022年全球光刻膠市場規(guī)模將超過100億美元。

2011-2018年中國光刻膠行業(yè)需求量情況(萬噸)

全球半導(dǎo)體光刻膠分地區(qū)市場份額

日本、歐美的專業(yè)公司壟斷，其中，日本的企業(yè)占據(jù) 80%的全球市場。光刻膠主要企業(yè)包括日本的 TOK、JSR、富士、信越化學和住友化學，美國的陶氏化學、歐洲的 AZEM 和韓國的東進世美肯等，而國內(nèi)在高端光刻膠及配套關(guān)鍵材料產(chǎn)品方面一直處于空白狀態(tài)。

1、全球PCB光刻膠主要生產(chǎn)企業(yè)

PCB光刻膠，技術(shù)含量較低。全球PCB光刻膠市場規(guī)模在20億美元左右，中國市場規(guī)模占比達50%以上。隨著PCB光刻膠外企東移和內(nèi)資企業(yè)的不斷發(fā)展，中國已成為全球最大的PCB光刻膠生產(chǎn)基地。

2、LCD光刻膠的組成成分

LCD光刻膠的全球供應(yīng)集中在日本、韓國、中國臺灣等地區(qū)，海外企業(yè)市占率超過90%。彩色濾光片所需的高分子顏料和顏料的分散技術(shù)主要集中在Ciba等日本顏料廠商手中，因此彩色光刻膠和黑色光刻膠的核心技術(shù)基本被日本和韓國企業(yè)壟斷。

光刻膠不止應(yīng)用于芯片，在高端面板、模擬半導(dǎo)體、發(fā)光二極管、光電子器件以及光子器件上應(yīng)用廣泛，現(xiàn)在我們需要的高端光刻膠基本是從國外進口，這不僅會影響我國光刻機的研制，更會影響其他相關(guān)產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。但是隨著中國經(jīng)濟與科技的快速發(fā)展，自主研發(fā)是趨勢所向，我們需要腳踏實地的一個個將諸多難關(guān)攻破，才有可能研制出屬于中國人的光刻膠。