突破！國產(chǎn)28nm光刻機(jī)交付在即

時(shí)間：2020-06-08 11:33:55

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[導(dǎo)讀]據(jù)報(bào)道，上海微電子裝備(集團(tuán))股份有限公司披露，將在2021-2022年交付第一臺(tái)第一臺(tái)28nm的immersion式（沉浸式）光刻機(jī)。雖然與當(dāng)前主流荷蘭的7nm乃至是5nm芯片制備工藝還有大的差距，但也標(biāo)志著國產(chǎn)光刻機(jī)的飛躍進(jìn)步，在逐漸減少與荷蘭ASML公司差距，畢竟在

據(jù)報(bào)道， 上海微電子裝備(集團(tuán))股份有限公司披露，將在2021-2022年交付第一臺(tái)第一臺(tái)28nm的immersion式（沉浸式）光刻機(jī)。

雖然與當(dāng)前主流荷蘭的7nm乃至是5nm芯片制備工藝還有大的差距，但也標(biāo)志著國產(chǎn)光刻機(jī)的飛躍進(jìn)步，在逐漸減少與荷蘭ASML公司差距，畢竟在此之前國產(chǎn)光刻機(jī)還是90nm。

上海微電子是國內(nèi)技術(shù)最領(lǐng)先的光刻設(shè)備廠商，從低端切入各個(gè)細(xì)分市場(chǎng)，現(xiàn)已成為封測(cè)龍頭企業(yè)的重要供應(yīng)商， 國內(nèi)市場(chǎng)占有率高達(dá)80%，全球市場(chǎng)占有率也有40%， 同時(shí)旗下LED/MEMS/功率器件光刻機(jī)性能指標(biāo)領(lǐng)先，LED光刻機(jī)市占率第一。

上海微電子現(xiàn)有4大系列的光刻機(jī)產(chǎn)品，其中600系列步進(jìn)掃描投影光刻機(jī)面向IC前道制造，采用四倍縮小倍率的投影物鏡、工藝自適應(yīng)調(diào)焦調(diào)平技術(shù)，以及高速高精的自減振六自由度工件臺(tái)掩模臺(tái)技術(shù)，可用于90nm、110nm、280nm工藝和200mm、300mm晶圓生產(chǎn)。

500系列面向IC后道先進(jìn)封裝，300系列面向LED、MEMS、功率器件制造，200系列面向TFT曝光。

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