什么是光譜分析儀投射測定?光譜分析儀測量受哪些因素影響?
在這篇文章中,小編將對(duì)光譜分析儀的投射測定以及影響光譜分析儀測量的內(nèi)在因素的相關(guān)內(nèi)容和情況加以介紹以幫助大家增進(jìn)對(duì)光譜分析儀的了解程度,和小編一起來閱讀以下內(nèi)容吧。
一、光譜分析儀引言
光譜分析儀,是一種用于測量發(fā)光體的輻射光譜,即發(fā)光體本身的指標(biāo)參數(shù)的儀器。光譜分析就是從識(shí)別某些元素的特征光譜來鑒別元素的存在(定性分析),而這些光譜線的強(qiáng)度又與試樣中該元素的含量有關(guān),因此又可利用這些譜線的強(qiáng)度來測定元素的含量(定量分析)。
二、光譜分析儀的投射測定
光譜儀的透射率或它的效率可用輔助單色儀裝置來測定。在可見和近紫外實(shí)現(xiàn)這些測量沒有任何困難。測量通過第一個(gè)單色儀的光通量,緊接著測量通過兩個(gè)單色儀的光通量,以這種方式來確定第二個(gè)單色儀的透射率。
絕對(duì)測量需要知道單色儀的絕對(duì)透射率:對(duì)于相對(duì)測量,以各種波長處的相對(duì)單位可以測量透射率。真空紫外線的這些測量有相當(dāng)大的實(shí)驗(yàn)困難,因此通常使用輔助單色儀。在各種入射角的情況下分別測量衍射光柵的效率。在許多實(shí)驗(yàn)步驟中已成功地避免了校準(zhǔn)上的困難。
曾經(jīng)研究過光柵效率與波長、入射角、鍍層厚度、鍍層材料以及其它因素的關(guān)系。所有這些測量都指出,在許多情況下能量損失是非常顯著的,并且光柵的效率低于1%,光柵的不同部分可能有明顯不同的效率。
三、影響光譜分析儀測量的內(nèi)在因素
在了解了光譜分析儀的投射測定的相關(guān)內(nèi)容后,我們?cè)賮砜纯从绊懝庾V分析儀測量的一些內(nèi)在因素。
1. 物理干擾
物理干擾是指在樣品轉(zhuǎn)移和蒸發(fā)過程中任何物理因素變化引起的干擾效應(yīng)。屬于此類干擾的因素包括:測試溶液的粘度、溶劑的蒸氣壓、霧化氣體的壓力等。物理干擾是非選擇性干擾,對(duì)樣品元素的影響基本相似。
制備類似于測試樣品的標(biāo)準(zhǔn)樣品是消除物理干擾的常用方法。當(dāng)樣品的成分未知或無法匹配時(shí),可以使用標(biāo)準(zhǔn)添加方法或稀釋方法來減少和消除物理干擾。
2. 化學(xué)干擾
化學(xué)干擾是指由測試元件與其他組件之間的化學(xué)相互作用引起的干擾效應(yīng)。它主要影響測試元件的原子化效率,并且是原子吸收分光光度法中干擾的主要來源。這是由于在液相或氣相中被測元素的原子與干擾物質(zhì)的組成之間形成了熱力學(xué)更穩(wěn)定的化合物,這影響了被測元素化合物的離解和原子化。
消除化學(xué)干擾的方法包括:化學(xué)分離; 使用高溫火焰; 加入釋放劑和保護(hù)劑等。
3. 電離干擾
高溫下原子的電離會(huì)降低基態(tài)原子的濃度,并導(dǎo)致原子吸收信號(hào)降低,這種干擾稱為電離干擾。電離效應(yīng)隨溫度和電離平衡常數(shù)的增加而增加,而隨被測元素濃度的增加而減小。添加更容易電離的堿金屬元素可以有效消除電離干擾。
4. 光譜干擾
光譜干擾包括譜線重疊、光譜通帶內(nèi)存在非吸收線、原子化池內(nèi)的直流發(fā)射、分子吸收、光散射等。當(dāng)采用銳線光源和交流調(diào)制技術(shù)時(shí),前3種因素一般可以不予考慮 ,主要考慮分子吸收和光散射地影響,它們是形成光譜背景的主要因素。
5. 分子吸收干擾
分子吸收干擾是指由原子化過程中產(chǎn)生的氣體分子,氧化物和鹽分子吸收輻射引起的干擾。光散射是指在霧化過程中生成的固體顆粒會(huì)散射光,從而使散射光偏離光路,并且無法被檢測器檢測到,從而導(dǎo)致高吸收值。
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