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[導(dǎo)讀]臺(tái)積電是眾多無(wú)工廠半導(dǎo)體企業(yè)的命根,但近兩年這家全球頭一號(hào)代工廠卻屢屢令人失望?,F(xiàn)如今40nm是大放異彩了,下一代28nm卻有重蹈覆轍的傾向。 臺(tái)積電CEO兼董事會(huì)主席張忠謀近日表示:“我們已經(jīng)使用28nm工藝完成了

臺(tái)積電是眾多無(wú)工廠半導(dǎo)體企業(yè)的命根,但近兩年這家全球頭一號(hào)代工廠卻屢屢令人失望?,F(xiàn)如今40nm是大放異彩了,下一代28nm卻有重蹈覆轍的傾向。

臺(tái)積電CEO兼董事會(huì)主席張忠謀近日表示:“我們已經(jīng)使用28nm工藝完成了89件不同產(chǎn)品的流片,每一個(gè)都按期實(shí)現(xiàn)。每次流片的首批硅片都擁有完整的功能,良品率也令人滿意……不過(guò)因?yàn)?011年的經(jīng)濟(jì)形勢(shì)和市場(chǎng)需求前景軟化,28nm的投產(chǎn)所需時(shí)間比預(yù)期得更長(zhǎng)。

臺(tái)積電CFO兼高級(jí)副總裁何麗梅的說(shuō)法也很相似:“28nm的推遲并非是因?yàn)橘|(zhì)量問(wèn)題,流片情況良好。推遲主要是因?yàn)槲覀兊目蛻艚?jīng)濟(jì)軟化,并非在計(jì)劃之中。28nm工藝今年第四季度在晶圓總收入中貢獻(xiàn)的比例大約為1%。

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臺(tái)積電一共開(kāi)發(fā)了四種不同用途的28nm工藝,其中CLN28HP HKMG面向高性能產(chǎn)品、CLN28HPM HKMG面向移動(dòng)計(jì)算產(chǎn)品、CLN28HPL HKMG面向低漏電率低功耗產(chǎn)品、CLN28LP SION面向低成本產(chǎn)品

臺(tái)積電進(jìn)度的遲緩將迫使AMD、NVIDIA采用不同的28nm工藝,其中AMD的下代南方群島Radeon HD 7000系列將首先采用CLN28HPL HKMG,有望今年第四季度開(kāi)始量產(chǎn);NVIDIA的開(kāi)普勒則需要等待CLN28HP HKMG,量產(chǎn)至少要明年第一季度。

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今年第二季度,40nm在臺(tái)積電總收入中的貢獻(xiàn)比例又增加了四個(gè)百分點(diǎn)而升至26%,65/55nm則再次有所下滑而占據(jù)29%,另外古老的150+nm依然牢牢控制著28%的份額,剩下130/110nm、90/80nm均不到10%。

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受形勢(shì)所迫,臺(tái)積電也調(diào)整了2011年的晶圓生產(chǎn)規(guī)劃,折算成200毫米晶圓全年產(chǎn)能預(yù)計(jì)為1324.8萬(wàn)塊,年增17%,相比此前的計(jì)劃減少了22.8萬(wàn)塊,另外300毫米晶圓產(chǎn)能今年會(huì)增加30%。

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