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[導(dǎo)讀]FinFET晶體管大量的金錢和精力都花在探索FinFET工藝,它會持續(xù)多久和為什么要替代他們?在近期內(nèi),從先進(jìn)的芯片工藝路線圖中看已經(jīng)相當(dāng)清楚。芯片會基于今天的FinFET工藝技術(shù)或者另一種FDSOI工藝的平面技術(shù),有望可縮

FinFET晶體管

大量的金錢和精力都花在探索FinFET工藝,它會持續(xù)多久和為什么要替代他們?

在近期內(nèi),從先進(jìn)的芯片工藝路線圖中看已經(jīng)相當(dāng)清楚。芯片會基于今天的FinFET工藝技術(shù)或者另一種FDSOI工藝的平面技術(shù),有望可縮小到10nm節(jié)點(diǎn)。但是到7nm及以下時,目前的CMOS工藝路線圖已經(jīng)不十分清晰。

半導(dǎo)體業(yè)已經(jīng)探索了一些下一代晶體管技術(shù)的候選者。例如在7nm時,采用高遷移率的FinFET,及用III-V族元素作溝道材料來提高電荷的遷移率。然后,到5nm時,可能會有兩種技術(shù),其中一種是環(huán)柵FET,和另一種是隧道FET(TFET),它們在比較中有微弱的優(yōu)勢。原因都是因?yàn)樽罱KCMOS器件的靜電問題,一種是在溝道的四周圍繞著柵極的結(jié)構(gòu)。相比之下,TFETs是依賴陡峭的亞閾值斜率晶體管來降低功耗。

這場競賽還遠(yuǎn)未結(jié)束。顯然在芯片制造商之間可能已經(jīng)達(dá)成以下共識:下一代器件的結(jié)構(gòu)選擇,包括III-V族的FinFET;環(huán)柵的FinFET;量子阱;硅納米線;SOIFinFET和TFET等。

未來仍有很長的路要走。除此之外,還有另一條路可能采用一種垂直的芯片架構(gòu),如2.5D/3D堆疊芯片以及單片3DIC。

總之,英特爾,臺積電和一些其他公司,它們均認(rèn)為環(huán)柵技術(shù)可能會略占上風(fēng)。Intel的Mayberry說,英特爾也正在研究它,這可能是能被每個人都能接受的工藝路線圖。

芯片制造商可能需要開發(fā)一種以上的架構(gòu)類型,因?yàn)闆]有一種單一的技術(shù)可為未來的應(yīng)用是個理想的選擇。Intel公司副總裁,元件技術(shù)和制造部主任MichaelMayberry說。這不可能是一個單一的答案,有許多不同的答案,將針對不同的細(xì)分市場?!?BR>
英特爾同樣也對TFET技術(shù)表示出濃厚的興趣,盡管其他人有不同的意見。最終的贏家和輸家將取決于成本,可制造性和功能性。Mayberry說,例如,最為看好的是晶體管的柵極四周被碳納米線包圍起來,但是我們不知道怎樣去實(shí)現(xiàn)它。所以這可能不是一個最佳的選擇方案,它必須要能進(jìn)行量產(chǎn)。

另一個問題是產(chǎn)業(yè)能否保持仍是每兩年的工藝技術(shù)節(jié)點(diǎn)的節(jié)奏。隨著越來越多的經(jīng)濟(jì)因素開始發(fā)揮作用,相信未來半導(dǎo)體業(yè)移動到下一代工藝節(jié)點(diǎn)的時間會減緩,甚至可能會不按70%的比例縮小,而延伸下一代的工藝節(jié)點(diǎn)。

延伸FinFET工藝

在2014年英特爾預(yù)計(jì)將推出基于14nm工藝的第二代FinFET技術(shù)。同樣在今年,格羅方德,臺積電和三星也分別有計(jì)劃推出他們的14nm級的第一代FinFET技術(shù)。

intel公司也正分別開發(fā)10nm的FinFET技術(shù),然而現(xiàn)在的問題是產(chǎn)業(yè)如何延伸FinFET工藝?對于FinFET技術(shù),IMEC的工藝技術(shù)高級副總裁,AnSteegen說,在10nm到7nm節(jié)點(diǎn)時柵極已經(jīng)喪失溝道的控制能力。Steegen說,理想的方案是我們可以把一個單一的FinFET最大限度地降到寬度為5nm和柵極長度為10nm。

所以到7nm時,業(yè)界必須考慮一種新的技術(shù)選擇。根據(jù)不同產(chǎn)品的路線圖及行業(yè)高管的見解,主要方法是采用高遷移率或者III-V族的FinFET結(jié)構(gòu)。應(yīng)用材料公司蝕刻技術(shù)部的副總裁BradleyHoward說,從目前的態(tài)勢,在7nm節(jié)點(diǎn)時III-V族溝道材料可能會插入。

在今天的硅基的FinFET結(jié)構(gòu)中在7nm時電子遷移率會退化。由于鍺(Ge)和III-V元素材料具有較高的電子傳輸能力,允許更快的開關(guān)速度。據(jù)專家說,第一個III-V族的FinFET結(jié)構(gòu)可能由在pFET中的Ge組成。然后,下一代的III-V族的FinFET可能由鍺構(gòu)成pFET或者銦鎵砷化物(InGaAs)組成NFET。

高遷移率的FinFET也面臨一些挑戰(zhàn),包括需要具有集成不同的材料和結(jié)構(gòu)的能力。為了幫助解決部分問題,行業(yè)正在開發(fā)一種硅鰭的替換工藝。這取決于你的目標(biāo),但是III-V族的FinFET將最有可能用來替代鰭的技術(shù),Howard說?;旧?,你做的是替代鰭。你要把硅鰭的周圍用氧化物包圍起來。這樣基本上是把硅空出來用III-V族元素來替代。

什么是環(huán)柵結(jié)構(gòu)

在7nm以下,F(xiàn)inFET的結(jié)構(gòu)變得有點(diǎn)冒險Howard說。未來有潛力的器件中會采用環(huán)柵結(jié)構(gòu),使我們有可能在7nm以下節(jié)點(diǎn)時再延伸幾代。

然后,到5nm時,產(chǎn)業(yè)可能延伸采用高遷移率的FinFET。另一種選擇是建立一個量子阱的FinFET器件。但是在許多場合可能是下一代的III-V族的FinFET。Howard說在量子阱的FinFET中,組成器件的一個阱把載流子限制在內(nèi)。從學(xué)術(shù)的角度來看量子阱是十分有趣的。

根據(jù)IBM的說法,由于在FinFET中鰭的寬度才5nm,溝道寬度的變化可能會導(dǎo)致不良的VT的變化和遷移率損失。一個有前途的選擇,采用環(huán)柵的FET可以規(guī)避此問題。環(huán)柵FET是一種多柵的結(jié)構(gòu),其中柵極是放置在一個溝道的四周?;旧鲜且粋€硅納米線被柵極包圍。這就是你的晶體管,它看起來不同,但實(shí)際上仍是有一個源,一個漏和一個柵極。

格羅方德的高級技術(shù)會員AnChen說采用環(huán)柵結(jié)構(gòu)有一些優(yōu)點(diǎn)和缺點(diǎn),但是我認(rèn)為很有前途。雖然柵極的四周有更好的靜電場,但是也有一些制造工藝的問題。

環(huán)柵FET工藝制造困難,以及昂貴。它的復(fù)雜性有一例,IBM最近描述了一個用硅納米線環(huán)柵的MOSFET,它實(shí)現(xiàn)了約30nm的納米線間距和縮小的柵極間距為60nm。這個器件有一個有效的12.8nm納米線。

在IBM的環(huán)柵極制造工藝中,兩個landingpads(著陸墊)形成于基板。納米線的形成和水平方向懸浮在著陸墊上。然后,圖案化的垂直柵極在懸浮的納米線上。這樣的工藝使多個柵極構(gòu)成在共同的懸浮區(qū)上。

根據(jù)IBM說,形成間隔后,然后在柵極的以外區(qū)域切斷硅納米線,再在間隔的邊緣在原位進(jìn)行摻雜的硅外延生長,在間隔邊緣的硅納米線其橫截面就顯出來。最后用傳統(tǒng)的自對準(zhǔn)鎳基硅化物作接觸和銅互連完成器件的制作。

環(huán)柵結(jié)構(gòu)也有其他的作法。例如,新加坡國立大學(xué),Soitec和法國LETI最近描述一個Ge的環(huán)柵納米線pFET。寬度為3.5nm納米線,該器件還與相變材料Ge2Sb2Te5(GST)集成一體,作為一個線性的stressor,從而提高它的遷移率。

與此同時,英特爾正在作不同的環(huán)柵結(jié)構(gòu)。

Intel的Mayberry說,直徑約6nm,我們可以做得更小些。它是由許多不同的材料作成,采用原子層精密生長在一個3D空間中。所以相當(dāng)困難進(jìn)行量產(chǎn)。這是一個尚未解決的問題,我們正在研究。

其它的選擇

環(huán)柵結(jié)構(gòu)不是唯一的選擇。我們的工作還表明,量子阱的FinFET也有相當(dāng)?shù)撵o電的優(yōu)勢。IMEC的邏輯程序經(jīng)理AaronThean說。實(shí)際上,量子阱是一種絕緣的概念,量子阱可被用來防止泄漏。[!--empirenews.page--]

最近,IMEC,格羅方德和三星演示了一種量子阱的FinFET。它們采用鰭的替換工藝,引變材料Ge基溝道PFET。你可以作一個量子阱器件用III-V族,也可以不用鍺,甚至不用硅及硅鍺。

量子阱器件的另一種形式是采用FDSOI工藝,其中硅作為一個阱及氧化物作為阻擋層。IBM的顧問AliKhakifirooz說,我的觀點(diǎn)是在7nm時仍然可在SOI上用內(nèi)置形變方式形成一個Si和SiGeFinFET。

IBM也正在進(jìn)行的另一種技術(shù),稱為“積極縮小的應(yīng)變硅直接在絕緣體上(SSDOI)的FinFET。在這項(xiàng)技術(shù)中,硅片有一個鍵合氧化物的應(yīng)變硅層。FDSOI技術(shù)據(jù)猜測可能比體硅更容易加工制造,但是襯底是更昂貴和基礎(chǔ)設(shè)施條件還不夠成熟。

事實(shí)上,每一種下一代晶體管的候選者都需有不同的平衡,作出選擇是困難與復(fù)雜的。IBM的AliKhakifirooz認(rèn)為我個人對III-V族作為MOSFET溝道中硅的替代材料表示極大關(guān)注。相比FinFET環(huán)柵的四周有更好的靜電場。環(huán)柵極可以擴(kuò)展到更短的LG溝道長度,但也有一些挑戰(zhàn)。例如,如果環(huán)柵極是用本體硅襯底,它需要一些技巧用來隔離柵與基板,而沒有電容的懲罰。

還有其他的,也許更重要的,但是要仔細(xì)權(quán)衡。事實(shí)上,許多人都在作環(huán)柵工藝。無論我們看到它在7nm或5nm生產(chǎn)是另外的事。你或許需要,或需并不要環(huán)柵極。我們需要對于這個問題的回答首先來自電路設(shè)計(jì)人員,然后才是技術(shù)專家。
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