TSMC選擇使用Cadence的Virtuoso和Encounter平臺(tái)

全球電子設(shè)計(jì)創(chuàng)新領(lǐng)先企業(yè)Cadence設(shè)計(jì)系統(tǒng)公司（NASDAQ: CDNS）今天宣布TSMC已選擇Cadence?解決方案作為其20納米的設(shè)計(jì)架構(gòu)。Cadence?解決方案包括Virtuoso?定制/模擬以及Encounter? RTL-to-Signoff平臺(tái)。

TSMC 20納米參考流程在Encounter和Virtuoso平臺(tái)上吸收了新功能和新方法，并兼顧到最新的重要布線特征、時(shí)序收斂和設(shè)計(jì)尺寸。

在定制/模擬設(shè)計(jì)方面， Virtuoso技術(shù)支持行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)OpenAccess數(shù)據(jù)庫(kù)中新的20納米約束條件，包括G0規(guī)則、顏色感知版圖的互動(dòng)著色、約束驅(qū)動(dòng)的預(yù)著色流程、奇數(shù)環(huán)的預(yù)防和偵測(cè)、高級(jí)Pcell對(duì)接、以及局域互聯(lián)層支持。Cadence Integrated Physical Verification System是一種設(shè)計(jì)中系統(tǒng)，它在Virtuoso平臺(tái)上集成了Cadence Physical Verification System。

數(shù)字設(shè)計(jì)方面，Encounter RTL-to-GDSII支持20納米規(guī)則、用以進(jìn)行生成即正確的布局和布線的新FlexColor雙成型技術(shù)、Encounter RTL Compiler和用更短的周轉(zhuǎn)時(shí)間達(dá)到更好的效果的Encounter Digital Implementation（EDI）System的GigaOpt優(yōu)化。

對(duì)于簽收，Cadence Encounter Timing System提供先進(jìn)的波形造型和多值SPEF，以進(jìn)行雙造型RC提取。Cadence QRC Extraction提供DPT感知的拐角提取技術(shù)，同時(shí)支持LEF/DEF 和 GDSII流程。Cadence物理驗(yàn)證系統(tǒng)提供20納米雙成型和更多的DRC糾錯(cuò)支持，TSMC設(shè)計(jì)規(guī)則現(xiàn)可用于物理驗(yàn)證系統(tǒng)。Encounter Power System提供精確、基本和復(fù)雜的基于拓?fù)涞腅M規(guī)則，而Litho Physical Analyzer和Litho Electrical Analyzer已經(jīng)升級(jí)為20納米模式，以進(jìn)行熱點(diǎn)分析和修復(fù)。

總之，TSMC已采納Cadence技術(shù)用于其定制設(shè)計(jì)參考流程，這展現(xiàn)了通過(guò)通用技術(shù)設(shè)置、集成的同步模擬和數(shù)字版圖來(lái)設(shè)計(jì)定制和數(shù)字支持模擬電路的一種方式方法。

“Cadence專(zhuān)注于為我們的客戶(hù)提供他們所需的技術(shù)以解決當(dāng)今復(fù)雜設(shè)計(jì)中的最大難題，比如低功耗?！盋adence硅實(shí)現(xiàn)集團(tuán)的高級(jí)副總裁Chi-Ping Hsu博士說(shuō)，“我們一直同TSMC以及我們共同的客戶(hù)緊密合作，開(kāi)發(fā)綜合解決方案，以解決20納米的設(shè)計(jì)問(wèn)題。我們的Virtuoso和Encounter 20納米技術(shù)的獨(dú)特結(jié)合，形成了統(tǒng)一流程，可以解決最具挑戰(zhàn)的低功耗混合信號(hào)芯片問(wèn)題?！?br>
“安裝設(shè)計(jì)工具以滿足20納米需求，這是只有通過(guò)緊密合作才能完成的艱巨任務(wù)?！?strong>TSMC設(shè)計(jì)架構(gòu)市場(chǎng)部高級(jí)主管Suk Lee說(shuō)，“20納米流程需要新的方法促使在工藝節(jié)點(diǎn)可用的同時(shí)，生態(tài)環(huán)境也同樣可以接受這樣的生產(chǎn)設(shè)計(jì)。我們同Cadence的合作包含了完整的混合信號(hào)和數(shù)字流程，以確保雙成型需求得到實(shí)現(xiàn)和驗(yàn)證。這將有助于我們共同的客戶(hù)利用這個(gè)新的工藝節(jié)點(diǎn)盡快得到工作芯片?！?br>