據(jù)市場調(diào)研公司IC Insights的預測,2006年全球MOS集成電路的工廠產(chǎn)能將增長1,150萬個等價200mm晶圓,僅比2000年創(chuàng)下的最大增幅低20萬個。預計2006年總體MOS工廠產(chǎn)能將達到9,520萬個200mm等價晶圓,比2005年8,370萬個增長14%。2000年,總體MOS工廠產(chǎn)能大增24%,接近6,150萬個200mm等價晶圓,相當于比上一年增加1,170萬個。產(chǎn)能大幅上升,加之2001年市場需求放緩,當時導致半導體出現(xiàn)有史以來最嚴重的衰退。
但IC Insights公司認為,這次產(chǎn)能增長一直相對溫和,而且時間跨度達數(shù)年,表明集成
電路制造商比較謹慎。例如,在2004年的繁榮時期,IC產(chǎn)業(yè)的MOS產(chǎn)能僅增長10%。2005年增加11%。產(chǎn)能利用率一直相對穩(wěn)定,預計2006年為90.1%,高于2005年的89.7%,低于2004年的92.2%。2000年IC產(chǎn)業(yè)MOS工廠的產(chǎn)能利用率高達95.3%,但2001年降至71.9%。IC Insights的數(shù)據(jù)庫和預測顯示,1994-2010年產(chǎn)業(yè)的平均產(chǎn)能利用率為88%。
雖然今年MOS產(chǎn)能增幅不足以導致全球產(chǎn)能過度增加,但仍然足以抑制
IC平均銷售價格的上漲(特別是
MOS存儲),其影響可能持續(xù)到2007年年底。