FSI國際知識服務(wù)系列研討會(huì)（KSS）將于11月重返亞洲主要城市

FSI國際有限公司今日宣布：其知識服務(wù)系列研討會(huì)（KSS）將于2008年11月2日至9日重返亞洲。研討會(huì)將在上海、首爾、新加坡、新竹和臺中舉行，其內(nèi)容將專注于可提高各種先進(jìn)技術(shù)制造良率的表面處理工藝。多年來，F(xiàn)SI已將該系列免費(fèi)、全天研討會(huì)作為一項(xiàng)客戶服務(wù)，在亞洲、歐洲和美國地區(qū)舉行。

“FSI將亞洲視為戰(zhàn)略市場，一直與亞洲領(lǐng)先的IC制造商展開合作，他們通過FSI的機(jī)臺和工藝實(shí)現(xiàn)世界級的創(chuàng)新，”FSI國際董事長兼首席執(zhí)行官Don Mitchell說道。“伴隨著技術(shù)的演變，IC制造商們總是不斷面臨各種直接影響其經(jīng)營效果的新挑戰(zhàn)，F(xiàn)SI致力于幫助客戶拓展各種解決方案所需的知識以及最終在行業(yè)成就最佳實(shí)踐?！?/P>

在一天的活動(dòng)中，上午的短訓(xùn)課程為“IC器件新材料的清洗化學(xué)相容性”，由亞利桑那大學(xué)（University of Arizona）材料科學(xué)與工程專業(yè)教授Srini Raghaven博士講授。課程內(nèi)容將覆蓋晶圓清洗方法和技術(shù)，圍繞由IC器件新材料的出現(xiàn)而引起的清洗挑戰(zhàn)，包括高介電常數(shù)/金屬柵、SiGe以及自對準(zhǔn)勢壘等。

下午的演講將特邀FSI的專家、客戶和合作伙伴研討最新清洗工藝和技術(shù)，發(fā)言人除FSI專家外，還包括來自Hynix、Macronix、Magnachip、三星、UMC以及Yonsei大學(xué)的代表。演講和討論主題包括：銅/低k介質(zhì)刻蝕后清洗、SiGe-兼容的 NiPt自對準(zhǔn)硅化物工藝、高K金屬柵清洗、改良的清洗工藝、電介質(zhì)旋轉(zhuǎn)式涂布法的穩(wěn)定性、鈷（Co）剝離、FSI的ViPR™ 技術(shù)以及FSI新推出的單晶圓技術(shù)。

研討會(huì)安排如下：

•上    海， 2008年11月4日

•首    爾， 2008年11月6日

•新加坡， 2008年11月11日

•新    竹， 2008年11月13日

•臺    中， 2008年11月14日