預測在未來五年內(nèi)全球193納米光刻膠市場將以年均增長率達27%增長,到2013年時達12億美元。該數(shù)據(jù)來自一家電子材料顧問公司的報告。
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在先進圖形的形成中,對于193納米光刻膠市場無論干法或者浸液式都會有較大增長。
報告預測2008到 2013年內(nèi)全球光刻膠及其配套材料市場,包括涂層材料及真空淀積材料。
報告列出全球光刻膠供應商的市場份額,其中三家日本公司,如JSR,東京應化及Shin Etsu化學控制了全球193納米光刻膠市場的78%,而且可能會繼續(xù)擴大。
Linx顧問公司已經(jīng)發(fā)布一份新的全球圖形材料的預測及市場份額報告,以及每半年出版的一份Novolak和化學敏感膠的市場報告,適用于所有波長及浸液式光刻。