Mentor Graphics工具被納入臺積電16納米FinFET制程技術(shù)參考流程

【導(dǎo)讀】近日，Mentor Graphics公司今天宣布它已完成其用于臺積電16納米FinFET制程的數(shù)字成套工具。臺積電16納米參考流程包含一些新功能，用于Olympus-SoC?布局與布線系統(tǒng)的16納米設(shè)計，以及Calibre?物理驗證和可制造性設(shè)計(DFM)平臺。臺積電和Mentor完成了V0.5設(shè)計規(guī)則手冊(DRM)及SPICE 16納米FinFET認(rèn)證，并將繼續(xù)進(jìn)行V1.0的認(rèn)證。

“我們與Mentor Graphics緊密協(xié)作，以確定IC實施流程中要實現(xiàn)16納米FinFET技術(shù)優(yōu)勢所需的新功能，”臺積電公司設(shè)計基礎(chǔ)架構(gòu)營銷事業(yè)部高級主管Suk Lee說。“Mentor在之前制程節(jié)點提供了穩(wěn)定的設(shè)計支持環(huán)境，包括對多圖案的支持、低功耗設(shè)計、光刻檢查、可測試性設(shè)計，而新的功能正是建立于之前環(huán)境的基礎(chǔ)之上。”

Mentor® Olympus-SoC布局與布線系統(tǒng)經(jīng)過增強，可滿足臺積電16納米設(shè)計支持與認(rèn)證要求。支持FinFET設(shè)計的創(chuàng)新方法學(xué)有：有圖案密度平面規(guī)劃(實現(xiàn)早期金屬填充密度檢查)、MiM電容器插入(IR降改進(jìn))及對高電阻層布線/優(yōu)化(實現(xiàn)更好品質(zhì)的結(jié)果)。此外，Calibre InRoute™產(chǎn)品還讓Olympus-SoC的客戶能在設(shè)計中于本機調(diào)用Calibre DRC/DFM/DP簽核引擎，從而更高效快速地實現(xiàn)制造閉合。

16納米技術(shù)，特別是FinFET晶體管，引發(fā)了對更精確器件和互連寄生參數(shù)提取的需要。為確?？蛻?6納米設(shè)計的成功，臺積電與Mentor合作，通過工具認(rèn)證對Calibre xACT™產(chǎn)品進(jìn)行加強，以提供高精確性、高性能的寄生參數(shù)提取。

Calibre YieldEnhancer產(chǎn)品在其SmartFill部件中提供了一些新功能，從而簡化FinFET的填充規(guī)則并支持填充ECO流程，這樣就能在滿足高級填充簽核要求的同時，更快更容易地閉合一項設(shè)計。

Calibre RealTime集成平臺增加了一項支持：根據(jù)SPICE模擬生成的凈電壓進(jìn)行16納米電壓依賴規(guī)則的自動檢查，同時在Synopsys的Laker®定制設(shè)計環(huán)境中編輯版圖。凈電壓在版圖創(chuàng)建和編輯過程中，被自動施加于版圖，從而實現(xiàn)精確的檢查。Calibre RealTime和Synopsys Laker產(chǎn)品利用OpenAccess開放接口以實現(xiàn)快速流暢的用戶體驗，以在最少的時間內(nèi)產(chǎn)生最佳的定制版圖。

“每一個IC制程節(jié)點都帶來新的挑戰(zhàn)——自從20世紀(jì)60年代戈登摩爾提出著名的摩爾定律以來就一直是這樣，”Mentor Graphics公司副總裁兼Design-to-Silicon總經(jīng)理Joseph Sawicki說。“但是當(dāng)我們逼近CMOS尺寸的極限時，每一新節(jié)點都需要更多的創(chuàng)新和與整個生態(tài)系統(tǒng)更緊密的協(xié)作，才能保持我們行業(yè)健康的發(fā)展步伐。Mentor和臺積電再一次迎難而上，及時給行業(yè)帶來了需要的技術(shù)。”

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