芯片制造關(guān)鍵的EUV光刻機(jī)單價(jià)為何能超1億歐元?
每每提到半導(dǎo)體行業(yè)發(fā)展,免不了要說下中國最近兩年發(fā)展集成電路的決心之強(qiáng)、投資之大,國內(nèi)公司對(duì)人才也求賢若渴,不惜高薪挖人,但在關(guān)鍵技術(shù)上,我們落后歐美公司還是挺多的,特別是在半導(dǎo)體制造裝備上,先進(jìn)的光刻機(jī)還被歐美封鎖,有錢也買不到。進(jìn)入10nm工藝節(jié)點(diǎn)之后,EUV光刻機(jī)越來越重要,全球能產(chǎn)EUV光刻機(jī)的就是荷蘭ASML公司了,他們總共賣出18臺(tái)EUV光刻機(jī),總價(jià)值超過20億歐元,折合每套系統(tǒng)售價(jià)超過1億歐元,可謂價(jià)值連城。
ASML公司的光刻機(jī)是半導(dǎo)體生產(chǎn)中至關(guān)重要的裝備
對(duì)于芯片制造,有種戲謔的說法是CPU原材料是沙子,憑什么賣這么貴——這當(dāng)然是玩笑,沙子和晶圓都有二氧化硅成分,但完全是不同的東西,成本更不可比。之前我們也科普過CPU制造過程,完成整個(gè)過程需要很多工序,其中關(guān)鍵部分就是光刻,光刻工藝是這個(gè)制造環(huán)節(jié)是最為復(fù)雜的,成本最為高昂的,因?yàn)楣饪棠0濉⑼哥R、光源共同決定了“印”在光刻膠上晶體管的尺寸大小。
目前的光刻工藝使用的是193nm的紫外光,隨著制造工藝的提升,紫外光光刻技術(shù)也將進(jìn)入EUV極紫外光刻階段,但EUV工藝目前還不夠成熟,產(chǎn)能達(dá)不到大規(guī)模量產(chǎn)標(biāo)準(zhǔn)。
CPU制造過程中,光刻是非常關(guān)鍵的一步
光刻工藝需要光刻機(jī),全球有能力生產(chǎn)光刻機(jī)的公司不多,日本尼康、佳能也有這方面的技術(shù),但目前只能混跡低端市場(chǎng),能玩轉(zhuǎn)高端市場(chǎng)、特別是EUV光刻機(jī)的只有荷蘭ASML公司了,這也是Intel、TSMC、三星等晶圓廠都在爭(zhēng)取的新一代生產(chǎn)裝備。
該公司日前發(fā)布了2016年財(cái)報(bào),全年?duì)I收67.95億歐元,同比增長(zhǎng)8%,毛利率44.8%,凈利潤(rùn)14.7億歐元,同比增長(zhǎng)6%。
2016年Q4季度新賣出6臺(tái)EUV光刻機(jī),如此一來ASML公司售出的EUV光刻機(jī)總量就達(dá)到了18臺(tái),總價(jià)值超過20億歐元,算下來平均每臺(tái)設(shè)備超過1億歐元,放在全球來看,單一設(shè)備能達(dá)到這個(gè)價(jià)格的也沒幾個(gè)。
根據(jù)ASML公司所說,2017年他們預(yù)計(jì)交付12套EUV光刻機(jī),芯片廠商大規(guī)模量產(chǎn)EUV光刻工藝預(yù)計(jì)會(huì)在2018年底到2019年初,也就是在7nm節(jié)點(diǎn)及之后才會(huì)量產(chǎn)EUV工藝。