7nm時(shí)代來(lái)臨，明年臺(tái)積電將代工100多款7nm芯片

來(lái)自外媒的消息報(bào)道說(shuō)，預(yù)計(jì)到2018年底，臺(tái)積電用7nm工藝完成流片的芯片設(shè)計(jì)將超過(guò)50款，而到2019年底會(huì)有100多款芯片采用其7nm和增強(qiáng)版7nm EUV極紫外光刻技術(shù)。

作為代工行業(yè)的執(zhí)牛耳者，臺(tái)積電的7nm工藝正如火如荼。即便有中美貿(mào)易戰(zhàn)、挖礦需求衰退、智能手機(jī)銷量低迷等因素影響，7nm也將幫助臺(tái)積電在第三季度達(dá)成創(chuàng)紀(jì)錄的收入之后，第四季度繼續(xù)創(chuàng)造新高。

同時(shí)，盡管傳聞蘋(píng)果砍掉了一部分A12處理器訂單，臺(tái)積電仍然預(yù)計(jì)到明年會(huì)有100多款基于7nm、7nm EUV極紫外光刻工藝的芯片完成流片，在今年50款的基礎(chǔ)上翻一番還多，其中不乏華為麒麟、高通、AMD、NVIDIA、Xillinx這樣的大客戶。

因此，臺(tái)積電對(duì)于7nm工藝未來(lái)幾年的前景非常樂(lè)觀，預(yù)計(jì)相關(guān)年收入可以穩(wěn)定達(dá)到100-120億美元。

極紫外光刻(Extreme Ultraviolet Lithography)，常稱作EUV光刻，極紫外線就是指需要通過(guò)通電激發(fā)紫外線管的K極然后放射出紫外線。業(yè)界有人曾提到，EUV 光刻的技術(shù)能夠拯救摩爾定律。

在此之前，臺(tái)積典曾宣布，7nm EVU已經(jīng)完成芯片流片，魏哲家則透露，臺(tái)積電計(jì)劃在2020年大規(guī)模量產(chǎn)7nm EUV。

7nm EVU相比于7nm DUV晶體管密度提升20%，同等頻率下功耗可降低6-12%。

臺(tái)積電7nm目前正在全速開(kāi)工，將在今年第四季度為臺(tái)積電貢獻(xiàn)晶圓收入的20%以上，全年比例則可接近10%，明年全年則能超過(guò)20%。