Mentor Graphics宣布與GLOBALFOUNDRIES合作開發(fā)適用于 22FDX平臺(tái)的設(shè)計(jì)參考流程和工藝設(shè)計(jì)套件

Mentor Graphics公司(納斯達(dá)克代碼：MENT)近日宣布，正與 GLOBALFOUNDRIES 展開合作，認(rèn)證 Mentor® RTL 到 GDS 平臺(tái)(包括RealTime Designer™ 物理 RTL 合成解決方案和 Olympus-SoC™ 布局布線系統(tǒng))能夠完全適用于當(dāng)前版本的 GLOBALFOUNDRIES® 22FDX™平臺(tái)設(shè)計(jì)參考流程。此外，Mentor 和 GLOBALFOUNDRIES 還一同合作開發(fā)適用于 22FDX 平臺(tái)的工藝設(shè)計(jì)套件 (PDK)。該 PDK 支持 Mentor Calibre®平臺(tái)，涵蓋適用于 22FDX 平臺(tái)的設(shè)計(jì)規(guī)則檢查 (DRC)、版圖與電路圖比較 (LVS) 和金屬填充解決方案。這些解決方案可幫助雙方客戶利用 22FDX 工藝中的性能來解決功耗、性能和電流泄漏，從而優(yōu)化他們的設(shè)計(jì)。

GLOBALFOUNDRIES 業(yè)務(wù)開發(fā)副總裁 Pankaj Mayor 表示：“我們與Mentor Graphics 密切合作，使其產(chǎn)品能夠幫助客戶落實(shí) 22FDX 平臺(tái)的優(yōu)勢(shì)。對(duì)Mentor 工具用于實(shí)施流程和設(shè)計(jì)驗(yàn)證的認(rèn)證，將幫助設(shè)計(jì)人員實(shí)現(xiàn)功耗、性能和成本之間的最佳平衡。”

在先進(jìn)工藝的設(shè)計(jì)流程中，RealTime Designer™ 可以滿足諸多需求，包括更高的容量、更快的運(yùn)行時(shí)間、改進(jìn)的結(jié)果質(zhì)量 (QoR) 和集成的布局規(guī)劃功能。尤其對(duì)于 22FDX 平臺(tái)，它支持基于統(tǒng)一功率格式 (UPF) 的多電壓設(shè)計(jì)、多 Vt 優(yōu)化、電流泄漏和動(dòng)態(tài)功率分析及優(yōu)化、獨(dú)特的 RTL 級(jí)別布局規(guī)劃技術(shù)，從而改進(jìn) QoR 和運(yùn)行時(shí)間。Olympus-SoC™ 工具能夠全面解決我們使用先進(jìn)工藝時(shí)在性能、容量、上市時(shí)間、功率和可變性方面遇到的難題。對(duì)22FDX的支持包括低功耗功能，例如多電壓設(shè)計(jì)流程、并行多態(tài)多模時(shí)序和功率優(yōu)化、正向和反向偏置處理、電網(wǎng)上 DCAP 單元的插入以減少噪音。

Mentor Graphics 的 IC 實(shí)施部門總經(jīng)理 Pravin Madhani 表示：“我們的客戶要設(shè)計(jì)一些適用于移動(dòng)、無線、網(wǎng)絡(luò)和圖形產(chǎn)品的最復(fù)雜芯片。通過與GLOBALFOUNDRIES 進(jìn)行協(xié)作，我們能夠?yàn)殡p方客戶提供適用于 22FDX 平臺(tái)的先進(jìn)數(shù)字實(shí)施流程。

Calibre nmDRC™、Calibre nmLVS™ 和 Calibre YieldEnhancer 工具提供了可用于22FDX PDK 的驗(yàn)證功能。核心的DRC和LVS驗(yàn)證是由Calibre nmDRC 和 Calibre nmLVS 工具提供。Calibre YieldEnhancer中的SmartFill功能可通過智能自動(dòng)方式填充設(shè)計(jì)，提供填充形狀的最佳分布和布局，從而幫助設(shè)計(jì)人員達(dá)到平坦度和密度要求，最大程度地減少填充后的時(shí)序更改。

新版的 22FDX PDK 將為設(shè)計(jì)人員提供 GLOBALFOUNDRIES 所特有的 DFM 功能。GLOBALFOUNDRIES 提供了業(yè)界領(lǐng)先的 DRC+、制造分析和記分 (MAS) 和 Yield Enhancement Services™ (YES) 設(shè)計(jì)套件。這些基于 Calibre 平臺(tái)的產(chǎn)品，可幫助設(shè)計(jì)團(tuán)隊(duì)分析其設(shè)計(jì)風(fēng)格在22FDX工藝中對(duì)可制造性的影響。DRC+ 方法使用 Calibre Pattern Matching 工具的快速圖形匹配功能，從光刻角度識(shí)別出有問題的圖形，然后使用 Calibre nmDRC 對(duì)存在這些圖形的區(qū)域執(zhí)行更嚴(yán)格的設(shè)計(jì)約束。MAS 和 YES 方法有助于降低制造可變性：MAS 采用 Calibre YieldAnalyzer 中的 DFM 記分功能，可在所有層上對(duì) IP 模塊和 SoC 進(jìn)行記分;在 YES 服務(wù)中，GLOBALFOUNDRIES 工程師使用 Calibre YieldEnhancer 中的 Layout 修改功能，可修改邊緣和導(dǎo)孔(Via)擺放位置，進(jìn)而提升 Layout 的穩(wěn)健性。

Mentor Graphics 的 Design to Silicon 事業(yè)部副總裁 Joseph Sawicki 說道：“通過將最先進(jìn)的 Calibre 分析和驗(yàn)證功能整合到其22FDX 平臺(tái)中，GLOBALFOUNDRIES 向設(shè)計(jì)人員提供了其所需的工具，幫助他們提高產(chǎn)品的穩(wěn)健性。這不僅可確保為工藝流程提供高質(zhì)量設(shè)計(jì)，還可確保設(shè)計(jì)能更加快速地量產(chǎn)。”

Mentor Graphics 和 GLOBALFOUNDRIES 正攜手合作，開發(fā)可用于Sign-off的先進(jìn)寄生電路參數(shù)抽取和可靠性驗(yàn)證的 Calibre xACT™ 和 Calibre PERC™ 解決方案。