作為全球先進的芯片制造商臺積電,在硅基芯片的研發(fā)上已經(jīng)突破到了5nm工藝,并且正在向2nm工藝進發(fā),但2nm之后硅基芯片的工藝似乎遇到了瓶頸。當前國際與我國市場上普遍使用的都是硅基芯片,也就是利用硅晶片為原材料制造而成的芯片。這一芯片的制造是需要依賴于光刻機完成光刻這一程序的,然而如今我國另辟蹊徑探索碳基芯片的研制,能夠繞開光刻機這一需要長時間努力的領(lǐng)域,為我國芯片性能的提升開辟另一條道路,
我國近日在碳基半導體材料的研制方面有了非常重要突破,近日在碳化硅晶片量產(chǎn)方面也取得重大進展,相同的“碳”字,不同的材料,一個是晶片,一個是芯片。
碳基集成電路技術(shù)被認為是最有可能取代硅基集成電路的未來信息技術(shù)之一?!?微米級碳納米管集成電路平臺工藝開發(fā)與應(yīng)用研究”的驗收,標志著我國已經(jīng)正式進入碳基芯片領(lǐng)先的時代。碳基芯片橫空出世,中國芯片開啟彎道超車。