21ic訊 Mentor Graphics公司日前宣布瑞昱半導(dǎo)體股份有限公司(Realtek Semiconductor Corp.)目前已開始使用Calibre® PERC™產(chǎn)品作為該公司的生產(chǎn)驗(yàn)證工具,用于對(duì)其產(chǎn)品設(shè)計(jì)進(jìn)行復(fù)雜的電學(xué)特性檢查(ERC)。
明導(dǎo)公司(Mentor Graphics Corp)今天宣布,用以支持三星14nm IC制造工藝的綜合設(shè)計(jì)、制造與后流片實(shí)現(xiàn)(post tapeout)平臺(tái)問世,這一平臺(tái)能夠?yàn)榭蛻籼峁┩暾膹脑O(shè)計(jì)到晶圓的并行流程,使早期加工成為可能。完全可
明導(dǎo)公司(Mentor Graphics Corp)今天宣布,用以支持三星14nm IC制造工藝的綜合設(shè)計(jì)、制造與后流片實(shí)現(xiàn)(post tapeout)平臺(tái)問世,這一平臺(tái)能夠?yàn)榭蛻籼峁┩暾膹脑O(shè)計(jì)到晶圓的并行流程,使早期加工成為可能。完全可互操
近日,Mentor Graphics公司宣布Kalray公司已經(jīng)完成了其多功能處理器陣列集成電路的設(shè)計(jì)。該集成電路具有1.6億個(gè)門和30億晶體管。該設(shè)計(jì)是在Mentor Graphics公司的功能驗(yàn)證、物理設(shè)計(jì)、物理驗(yàn)證和可測(cè)試性設(shè)計(jì)流和Que
要點(diǎn)1.一個(gè)隨機(jī)微粒缺陷的概率是布局特征間距的函數(shù)。因?yàn)榇鎯?chǔ)器有相對(duì)致密的結(jié)構(gòu),它們天生就對(duì)隨機(jī)缺陷更加敏感,于是就可能影響到器件的總良品率。2.一款關(guān)鍵區(qū)域分析工具要能精確地分析出存儲(chǔ)器冗余,就必須了解
Mentor Graphics公司與中芯國際集成電路制造有限公司日前共同宣布中芯國際已采用 Mentor Graphics Calibre? PERC 電路可靠性驗(yàn)證解決方案為其最新的防靜電(ESD)保護(hù)設(shè)計(jì)法之一。 這么做可幫助客戶大型、復(fù)雜的系統(tǒng)級(jí)
Mentor Graphics公司與中芯國際集成電路制造有限公司日前共同宣布中芯國際已采用 Mentor Graphics Calibre? PERC 電路可靠性驗(yàn)證解決方案為其最新的防靜電(ESD)保護(hù)設(shè)計(jì)法之一。這么做可幫助客戶大型、復(fù)雜的系統(tǒng)級(jí)芯
MentorGraphics公司(納斯達(dá)克:MENT)與中芯國際集成電路制造有限公司("中芯國際",紐約證券交易所:SMI,香港聯(lián)合交易所:981)今天共同宣布中芯國際已采用MentorGraphicsCalibre?PERC電路可靠性驗(yàn)證解決方案為其
將用于中芯多電源域的系統(tǒng)級(jí)芯片可靠性驗(yàn)證 俄勒岡州威爾遜維爾和上海, 2012年5月22日電 /美通社亞洲/ Mentor Graphics公司(納斯達(dá)克:MENT)與中芯國際集成電路制造有限公司("中芯國際",紐約證券交易所:SMI,
明導(dǎo)國際(MentorGraphics)將與臺(tái)積電(TSMC)共同合作,從臺(tái)積電的65奈米制程節(jié)點(diǎn)開始,支援CalibreYieldEnhancer產(chǎn)品中的SmartFill功能;SmartFill解決方案的分析與自動(dòng)化填充(filling)功能,可讓設(shè)計(jì)人員無需以手動(dòng)客
明導(dǎo)國際(Mentor Graphics)將與臺(tái)積電(TSMC)共同合作,從臺(tái)積電的 65奈米制程節(jié)點(diǎn)開始,支援 Calibre YieldEnhancer 產(chǎn)品中的 SmartFill 功能; SmartFill 解決方案的分析與自動(dòng)化填充(filling)功能,可讓設(shè)計(jì)人員無
明導(dǎo)國際日前宣布,由中國政府、上海聯(lián)創(chuàng)投資管理有限公司、上海華虹(集團(tuán))有限公司、上海宏力半導(dǎo)體制造有限公司以及上海華虹NEC電子有限公司等合資成立的晶圓代工企業(yè)上海華力微電子有限公司采用了Calibre RET和
明導(dǎo)國際日前宣布,由中國政府、上海聯(lián)創(chuàng)投資管理有限公司、上海華虹(集團(tuán))有限公司、上海宏力半導(dǎo)體制造有限公司以及上海華虹NEC電子有限公司等合資成立的晶圓代工企業(yè)上海華力微電子有限公司采用了Calibre RE
明導(dǎo)國際日前宣布,由中國政府、上海聯(lián)創(chuàng)投資管理有限公司、上海華虹(集團(tuán))有限公司、上海宏力半導(dǎo)體制造有限公司以及上海華虹NEC電子有限公司等合資成立的晶圓代工企業(yè)上海華力微電子有限公司采用了Calibre RET和
明導(dǎo)國際(納斯達(dá)克代碼:MENT)今日宣布,由中國政府、上海聯(lián)創(chuàng)投資管理有限公司、上海華虹(集團(tuán))有限公司、上海宏力半導(dǎo)體制造有限公司以及上海華虹NEC電子有限公司等合資成立的晶圓代工企業(yè)上海華力微電子有限公司采
(接上期)產(chǎn)業(yè)鏈關(guān)鍵詞:28nm、EDA、ODM、制造技術(shù)和產(chǎn)品的大繁榮,離不開健全的IC產(chǎn)業(yè)鏈。此篇從與IC相關(guān)的產(chǎn)業(yè)鏈角度報(bào)道一些企業(yè)。EDA2009年EDA和半導(dǎo)體業(yè)都下降了10%左右。但在蕭條的嚴(yán)冬中,總有一些可敬的頑強(qiáng)生
明導(dǎo)國際(Mentor Graphics)表示已經(jīng)擴(kuò)大臺(tái)積電(TSMC) Reference Flow 10.0中包含的全套Mentor工具與技術(shù),并在Mentor Custom IC設(shè)計(jì)流程產(chǎn)品中支持TSMC可相互操作制程設(shè)計(jì)套件(interoperable process design kit,iP
Mentor Graphics公司近日宣布,公司已對(duì)臺(tái)積電 Reference Flow 10.0中的工具和技術(shù)進(jìn)行擴(kuò)展。擴(kuò)展的Mentor流程支持復(fù)雜的集成電路高級(jí)功能驗(yàn)證、28nm 集成電路 netlist-to-GDSII實(shí)現(xiàn)、與無處不在的Calibre物理驗(yàn)證和