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ASML股價(jià)繼續(xù)大跌：想賣(mài)先進(jìn)光刻機(jī)給中國(guó)廠商 但不被允許
10月17日消息，由于業(yè)績(jī)暴雷，這導(dǎo)致光刻機(jī)龍頭ASML股價(jià)暴跌，而兩天時(shí)間股價(jià)已跌超20%。
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曝ASML明年可能無(wú)法為中國(guó)廠商維修光刻機(jī)
9月2日消息，據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道稱，在美國(guó)要求下，ASML明年可能無(wú)法為中國(guó)廠商維修光刻機(jī)。
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ASML CEO：中國(guó)廠商不可能造出7nm及以下先進(jìn)光刻機(jī)
8月21日消息，據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道稱，ASML 首席執(zhí)行官克里斯托夫-福凱接受采訪時(shí)表示，世界需要中國(guó)生產(chǎn)的"傳統(tǒng)芯片"，它們將幫助填補(bǔ)歐洲的供需缺口。
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ASML：中國(guó)廠商生產(chǎn)“落后”制程芯片就行 世界需要
7月9日消息，據(jù)外媒報(bào)道稱，由于種種因素，ASML絕不能賣(mài)給中國(guó)廠商最先進(jìn)的光刻機(jī)，但該公司CEO卻表示，世界需要中國(guó)生產(chǎn)的“傳統(tǒng)芯片”。
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可量產(chǎn)0.2nm工藝！ASML公布Hyper NA EUV光刻機(jī)
6月16日消息，ASML去年底向Intel交付了全球第一臺(tái)High NA EUV極紫外光刻機(jī)，同時(shí)正在研究更強(qiáng)大的Hyper NA EUV光刻機(jī)，預(yù)計(jì)可將半導(dǎo)體工藝推進(jìn)到0.2nm左右，也就是2埃米。
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ASML公布Hyper NA EUV光刻機(jī)：死胡同不遠(yuǎn)了
6月16日消息，ASML去年底向Intel交付了全球第一臺(tái)High NA EUV極紫外光刻機(jī)，同時(shí)正在研究更強(qiáng)大的Hyper NA EUV光刻機(jī)，預(yù)計(jì)可將半導(dǎo)體工藝推進(jìn)到0.2nm左右，也就是2埃米。
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單臺(tái)售價(jià)超25億元！臺(tái)積電：ASML新型光刻機(jī)太貴 舊的還夠用
5月15日消息，據(jù)媒體報(bào)道，臺(tái)積電近日表示，荷蘭光刻機(jī)制造商ASML的新型光刻機(jī)價(jià)格過(guò)于昂貴，目前不打算采購(gòu)。
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ASML被禁止維修售華光刻機(jī)！CEO：基本不影響賺錢(qián)
4月29日消息，美國(guó)對(duì)中國(guó)的封鎖進(jìn)一步加劇，甚至不想讓ASML為已經(jīng)賣(mài)給中國(guó)的光刻機(jī)提供售后維護(hù)服務(wù)，不過(guò)在ASML看來(lái)，這么做影響并不大，至少基本不會(huì)影響其收入。
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ASML研究超級(jí)NA光刻機(jī)！2036年沖擊0.2nm工藝
2月17日消息，ASML已經(jīng)向Intel交付第一臺(tái)高NA EUV極紫外光刻機(jī)，將用于2nm工藝以下芯片的制造，臺(tái)積電、三星未來(lái)也會(huì)陸續(xù)接收，可直達(dá)1nm工藝左右。
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ASML今年發(fā)貨第一臺(tái)高NA EUV光刻機(jī)：成本逼近30億元！
9月7日消息，ASML宣布，將在今年底發(fā)貨第一臺(tái)支持高NA(數(shù)值孔徑)的EUV極紫外光刻機(jī)，型號(hào)“Twinscan EXE:5000”。
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ASML下調(diào)EUV需求預(yù)期：DUV暴漲
作為半導(dǎo)體制造中的核心裝備之一，光刻機(jī)至關(guān)重要，7nm以下工藝所需的EUV光刻機(jī)只有ASML公司能生產(chǎn)，售價(jià)達(dá)到10億以上，不過(guò)今年EUV的勢(shì)頭熄火了，DUV光刻機(jī)需求反而暴漲。
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ASML公布二季度業(yè)績(jī)超預(yù)期：營(yíng)收69億歐元
光刻機(jī)巨頭阿斯麥(ASML)在官網(wǎng)公布了2023年二季度的營(yíng)收數(shù)據(jù)，由于DUV光刻機(jī)收入增加，該季度營(yíng)收為69億歐元，超出市場(chǎng)預(yù)期(66.9億歐元)，凈利潤(rùn)19億歐元，毛利率為51.3%;第二季度訂單額45億歐元，同樣超出市場(chǎng)預(yù)期(39.8億歐元)，其中EUV光刻機(jī)訂單價(jià)值16億歐元。
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ASML稱建全自主半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈幾乎不可能
7月13日消息，《歐洲芯片法案》的結(jié)果已經(jīng)出爐，高達(dá)近500億元的補(bǔ)貼將啟動(dòng)，為的是打造自主半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈。
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ASML否認(rèn)特供版DUV：沒(méi)有面向中國(guó)推出特別版光刻機(jī)
日前有報(bào)道稱，ASML將面向中國(guó)市場(chǎng)推出特別版DUV光刻機(jī)，不過(guò)此事已經(jīng)辟謠，ASML表示一直以來(lái)ASML都遵守所適用的法律條例，公司并沒(méi)有面向中國(guó)市場(chǎng)推出特別版的光刻機(jī)。
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ASML：支持7nm高端DUV光刻機(jī)仍可出口
近日，ASML在其官網(wǎng)發(fā)表聲明稱，該公司未來(lái)出口其先進(jìn)的浸潤(rùn)式DUV光刻系統(tǒng)(即TWINSCAN NXT:2000i及后續(xù)浸潤(rùn)式系統(tǒng))時(shí)，將需要向荷蘭政府申請(qǐng)出口許可證。
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ASML 和 IMEC 將合作研發(fā) high-NA EUV 光刻技術(shù)
據(jù)業(yè)內(nèi)消息，近日荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備巨頭 ASML 和比利時(shí)微電子研究中心(IMEC)宣布雙方將在開(kāi)發(fā)最先進(jìn)高數(shù)值孔徑(High-NA)極紫外(EUV)光刻試驗(yàn)線的下一階段加強(qiáng)合作，為使用半導(dǎo)體技術(shù)的行業(yè)提供原型設(shè)計(jì)平臺(tái)和未開(kāi)發(fā)的未來(lái)機(jī)遇。
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ASML合作IMEC：共同加速推進(jìn)新一代光刻機(jī)
比利時(shí)微電子研究中心 (IMEC) 、阿斯麥 (ASML) 共同宣布，雙方將在開(kāi)發(fā)先進(jìn)高數(shù)值孔徑(High-NA)極紫外(EUV)光刻試驗(yàn)線的下一階段加強(qiáng)合作。
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致力2nm技術(shù)合作，Imec和日本半導(dǎo)體公司簽約
Imec和日本政府支持的以2nm工藝為目標(biāo)的半導(dǎo)體初創(chuàng)公司Rapidus本月早些時(shí)候在東京舉行的簽字儀式上同意了一項(xiàng)技術(shù)合作。
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蘋(píng)果和臺(tái)積電研究給科技領(lǐng)域探索出新道路，摩爾定律并不是唯一發(fā)展路線
該路線圖包括突破性的晶體管設(shè)計(jì)，從將持續(xù)到3納米的標(biāo)準(zhǔn)FinFET晶體管，到2納米和A7(7埃)的新的門(mén)控全方位(GAA)納米片和叉片設(shè)計(jì)，然后是A5和A2的CFET和原子通道等突破性設(shè)計(jì)。需要提醒的是，10個(gè)埃等于1納米，因此Imec的路線圖包括了次 "1納米 "工藝節(jié)點(diǎn)。
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IMEC發(fā)布報(bào)告：2036年實(shí)現(xiàn)"0.2nm"工藝
近日，在比利時(shí)安特衛(wèi)普舉辦的未來(lái)峰會(huì)上，IMEC(微電子研究中心)發(fā)布報(bào)告，探討了直至2036年左右的半導(dǎo)體工藝、技術(shù)路線圖。
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