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[導(dǎo)讀] 美國(guó)LED大廠Cree向美國(guó)專利商標(biāo)局(USPTO)申請(qǐng)的20080272386號(hào)專利,已于11月公開(kāi),內(nèi)容是使用激光剝削或切削(laserablationorsawing)技術(shù)直接在碳化硅(SiC)基板上刻出凹槽(trenches),再利用旋轉(zhuǎn)涂布法將半導(dǎo)體納米

美國(guó)LED大廠Cree向美國(guó)專利商標(biāo)局(USPTO)申請(qǐng)的20080272386號(hào)專利,已于11月公開(kāi),內(nèi)容是使用激光剝削或切削(laserablationorsawing)技術(shù)直接在碳化硅(SiC)基板上刻出凹槽(trenches),再利用旋轉(zhuǎn)涂布法將半導(dǎo)體納米晶體或熒光粉等熒光材料填入凹槽中,在凹槽間形成一個(gè)凸面橋,這個(gè)方法可以讓白光LED變得更小、更容易制造。

這些熒光填充物能把SiC基板上的GaNLED所發(fā)出的窄頻域藍(lán)光,轉(zhuǎn)換成寬帶譜的白光。專利發(fā)明人PeterAndrews指出,與目前將LED置于杯狀基座(submount)中并以光轉(zhuǎn)換材料封裝的技術(shù)相比,在基板上刻蝕出凹槽是一大進(jìn)展,因?yàn)榍罢邥?huì)限制白光LED的最小尺寸。為了協(xié)助光脫離LED,廠商會(huì)改變基座的形狀并提高其反射率,而Cree的凹槽設(shè)計(jì)也有提高光萃取率的作用。

Andrews指出,除了傳統(tǒng)LED使用的熒光粉外,在凹槽中引進(jìn)硒化鎘(CdSe)等半導(dǎo)體納米微晶,也有助于控制發(fā)光波長(zhǎng)。Cree建議以噴墨(inkjet)印刷、網(wǎng)印(screenprinting)與噴槍(airbrush)應(yīng)用系統(tǒng)取代常見(jiàn)的旋涂法,將這類新穎材料填入凹槽中。

盡管采用新的波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換材料并增加了凹槽設(shè)計(jì),LED裸晶仍保有傳統(tǒng)的標(biāo)準(zhǔn)電極結(jié)構(gòu),因此可繼續(xù)封裝成LED,或直接那來(lái)使用,例如直接被固定在電路板或基板上作應(yīng)用。

Cree在11月宣布,大小為1mm×1mm高功率白光LED的發(fā)光效率可高達(dá)161lm/W。對(duì)于這項(xiàng)新記錄,Cree表示這是晶粒與封裝技術(shù)提升的結(jié)果。該公司表示,他們即將生產(chǎn)這種具有紀(jì)錄優(yōu)勢(shì)的LED,將持續(xù)在生產(chǎn)過(guò)程中導(dǎo)入創(chuàng)新技術(shù),預(yù)期一年內(nèi)將開(kāi)始量產(chǎn)這種高效能的LED。

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