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[導(dǎo)讀]10月11日,中國(guó)領(lǐng)先的一站式IP和定制芯片領(lǐng)軍企業(yè)芯動(dòng)科技(INNOSILICON)官宣:已完成了全球首個(gè)基于中芯國(guó)際FinFET N+1先進(jìn)工藝的芯片流片和測(cè)試,所有IP全自主國(guó)產(chǎn),功能一次測(cè)試通過(guò),這是過(guò)去數(shù)月工藝迭代和共同努力后獲得的里程碑成果。

10月11日,中國(guó)領(lǐng)先的一站式IP和定制芯片領(lǐng)軍企業(yè)芯動(dòng)科技(INNOSILICON)官宣:已完成了全球首個(gè)基于中芯國(guó)際FinFET N+1先進(jìn)工藝的芯片流片和測(cè)試,所有IP全自主國(guó)產(chǎn),功能一次測(cè)試通過(guò),這是過(guò)去數(shù)月工藝迭代和共同努力后獲得的里程碑成果。

“N+1”是中芯國(guó)際對(duì)其第二代先進(jìn)工藝的代號(hào),其與現(xiàn)有的14nm工藝相比,性能提升了20%,功耗降低了57%,邏輯面積縮小了63%,SoC面積減少了55%。

據(jù)官網(wǎng)信息,芯動(dòng)科技是中國(guó)芯片IP和芯片定制的一站式領(lǐng)軍企業(yè),提供全球主流代工廠(chǎng)(臺(tái)積電/三星/格芯/中芯國(guó)際/聯(lián)華電子/英特爾/上海華力/武漢新芯等),從180nm到5nm工藝全套高速混合電路IP核和ASIC定制解決方案,尤其22nm以下FinFET工藝全覆蓋,是迄今為止國(guó)內(nèi)唯一具備兩家代工廠(chǎng)(臺(tái)積電、三星)5nm工藝庫(kù)和設(shè)計(jì)流片能力的技術(shù)提供商。

芯動(dòng)科技持續(xù)聚焦全球先進(jìn)工藝芯片IP和定制,擁有自主全系列高帶寬高性能計(jì)算IP技術(shù),多次在先進(jìn)工藝上填補(bǔ)國(guó)內(nèi)空白,核心技術(shù)支持了全球客戶(hù)數(shù)十億顆高端SOC量產(chǎn)。

自2019年始,芯動(dòng)在中芯N+1工藝尚待成熟的情況下,團(tuán)隊(duì)全程攻堅(jiān)克難,投入數(shù)千萬(wàn)元設(shè)計(jì)優(yōu)化,率先完成NTO流片?;贜+1制程的首款芯片經(jīng)過(guò)數(shù)月多輪測(cè)試迭代,助力中芯國(guó)際突破N+1工藝良率瓶頸。如今,芯動(dòng)科技基于國(guó)產(chǎn)N+1新工藝的率先里程碑NTO流片驗(yàn)證成功,為國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體生態(tài)鏈再立新功。

21ic家此前也曾報(bào)道,中芯國(guó)際針對(duì)其N(xiāo)+1代工藝進(jìn)展曾公開(kāi)回應(yīng),中芯國(guó)際表示2020年底小批量試產(chǎn)N+1工藝。那可以預(yù)見(jiàn)N+1量產(chǎn)的時(shí)間也將不會(huì)太遠(yuǎn)了。

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