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EUV光刻下墊層材料研究進展
EUV光刻是hp22以下器件制造最有前途的候選技術之一。但它有些難點需要克服，特別是要開發(fā)高功率EUV光源、制造多層掩膜與檢測以及開發(fā)均衡性良好的光刻膠，因為分辨率-線寬粗糙度-靈敏度(RLS)的權(quán)衡最重要。EUV用光刻
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2011韓國半導體光刻膠需求預計達2.58億美元 國內(nèi)外供應商競爭日趨激烈
在半導體制程中，曝光制程非常重要，因此作為其核心材料的光刻膠(Photoresist)占較大的生產(chǎn)成本，在技術與產(chǎn)業(yè)方面的重要性也非常高。根據(jù)DisplayBank統(tǒng)計，2011年用于韓國國內(nèi)半導體產(chǎn)業(yè)的光刻膠量約為25萬~30萬加侖
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2011韓國半導體光刻膠需求預計達2.58億美元
在半導體制程中，曝光制程非常重要，因此作為其核心材料的光刻膠(Photoresist)占較大的生產(chǎn)成本，在技術與產(chǎn)業(yè)方面的重要性也非常高。根據(jù)DisplayBank統(tǒng)計，2011年用于韓國國內(nèi)半導體產(chǎn)業(yè)的光刻膠量約為25萬~30萬加侖
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極大規(guī)模集成電路關鍵材料研究通過驗收
日前，為增強北京地區(qū)集成電路材料研發(fā)優(yōu)勢而啟動的，對接國家中長期科技發(fā)展規(guī)劃中的“極大規(guī)模集成電路關鍵材料研究”課題進行了結(jié)題驗收。 依托該課題，承擔單位攻克了248nm深紫外光刻膠、聚酰亞胺光敏樹脂、精密
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MIT實現(xiàn)9納米工藝電子束光刻技術
麻省理工學院 (MIT)的研究人員表示，已經(jīng)開發(fā)出一種技術，可望提升在芯片上寫入圖案的高速電子束光刻解析度，甚至可達9nm，遠小于原先所預期的尺寸。MIT表示，電子束光刻工具的最小特征尺寸已證實可以解決25nm的制程
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硅材料成芯片過程講解
昨天，上海有了第一條高規(guī)格、高產(chǎn)量的12英寸芯片線。送入這條全自動生產(chǎn)線的 “原料”，是一疊疊有如老式唱片的硅片。而最終，每張“唱片”都將變?yōu)槌汕先f枚集成電路芯片，裝入手機、電腦、數(shù)碼相機，甚至第二代身
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12英寸“唱片”(組圖)
本報記者 徐瑞哲 昨天，上海有了第一條高規(guī)格、高產(chǎn)量的12英寸芯片線。送入這條全自動生產(chǎn)線的 “原料”，是一疊疊有如老式唱片的硅片。而最終，每張“唱片”都將變?yōu)槌汕先f枚集成電路芯片，裝入手機、電腦、
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東芝展望EUV曝光技術量產(chǎn)在即或需要與雙圖案化技術并用
東芝在荷蘭阿斯麥（ASML）公司于2010年11月18日在東京舉行的“ASML/BrionComputationalLithographySeminar2010”會議上，展望了引進EUV（超紫外線）曝光技術進行量產(chǎn)的前景。東芝統(tǒng)管光刻技術開發(fā)的東木達彥表示“即
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東芝展望EUV曝光技術量產(chǎn)在即
東芝在荷蘭阿斯麥(ASML)公司于2010年11月18日在東京舉行的“ASML/Brion Computational Lithography Seminar 2010”會議上，展望了引進EUV(超紫外線)曝光技術進行量產(chǎn)的前景。東芝統(tǒng)管光刻技術開發(fā)的東木達
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Mattson Technology獲得光刻膠剝離系統(tǒng)新訂單
先進半導體工藝設備供應商Mattson Technology日前宣布從一家亞洲新客戶處獲得了Suprema光刻膠剝離系統(tǒng)訂單。該系統(tǒng)可用于先進邏輯器件生產(chǎn)，包括前端工藝及后端工藝。預計這些系統(tǒng)將于第四季度出貨。Mattson Technol
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沙子變"黃金"! 揭秘CPU制造全過程
CPU是計算機的心臟，它是決定計算機性能的最重要的部件。同樣CPU也是現(xiàn)代社會飛速運轉(zhuǎn)的動力源泉，在任何電子設備上都可以找到微芯片的身影。不過能完成復雜功能的CPU確是以沙子為原料做成的，不得不驚嘆于人類的智慧
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預測193納米光刻膠市場增長
預測在未來五年內(nèi)全球193納米光刻膠市場將以年均增長率達27%增長，到2013年時達12億美元。該數(shù)據(jù)來自一家電子材料顧問公司的報告。 在先進圖形的形成中，對于193納米光刻膠市場無論干法或者浸液式都會有較大增長
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預計193nm光刻膠市場將迅猛增長
根據(jù)咨詢公司Linx Consulting的報告，193nm光刻膠市場預計將在未來五年內(nèi)獲得27%的符合年均增長率，到2013年將達近12億美元。 193nm光刻膠市場，包括干法和沉浸式，是先進光刻及制版市場上最具成長潛力的市場。200
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材料成本上漲 JSR提升光刻膠價格
為了應對原材料價格上漲，日本JSR Corp.將在全球范圍內(nèi)提升g-和i-line PFR系列光刻膠價格，提價范圍為6％至10％，于12月1日起正式生效。 JSR表示公司已采取了積極的措施來改善生產(chǎn)效率，以彌補原材料、勞動力和物流
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華飛微電子：國產(chǎn)高檔光刻膠的先行者
光刻膠是集成電路中實現(xiàn)芯片圖形轉(zhuǎn)移的關鍵基礎化學材料，在光刻膠的高端領域，技術一直為美國、日本廠商等所壟斷;近年來，本土光刻膠供應商開始涉足高檔光刻膠的研發(fā)與生產(chǎn)，蘇州華飛微電子材料有限公司就是其中一家
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愛普生影像設備全面停用液晶面板制造中的光刻膠剝離液
精工愛普生集團下屬的愛普生影像設備（Epson Imaging Device）宣布，2007年7月已在日本國內(nèi)的所有事業(yè)所全面停用列入PRTR（污染物排放與轉(zhuǎn)移登記制度）的化學物質(zhì)“乙醇胺（2-Aminoethanol）”。乙醇胺是液晶面板制造
