本月中旬,在日本東京舉辦了ITF論壇上,與ASML(阿斯麥)合作研發(fā)光刻機(jī)的比利時(shí)半導(dǎo)體研究機(jī)構(gòu)IMEC公布了3nm及以下制程的在微縮層面技術(shù)細(xì)節(jié)。
世界光刻機(jī)巨頭ASML亮相第三屆進(jìn)博會。作為全球唯一能生產(chǎn)EUV光刻機(jī)的企業(yè),由于ASML目前仍不能向中國出口EUV光刻機(jī),所以此次展示的是其DUV光刻機(jī)。據(jù)了解,該產(chǎn)品可生產(chǎn)7nm及以上制程芯片。
臺積電是第一家將EUV(極紫外)光刻工藝商用到晶圓代工的企業(yè),目前投產(chǎn)的工藝包括N7+、N6和N5三代。
作為半導(dǎo)體生產(chǎn)中的重要設(shè)備,光刻機(jī)不可或缺,尤其是7nm以下先進(jìn)工藝生產(chǎn)離不開的EUV光刻機(jī),目前全球只有荷蘭ASML公司能夠生產(chǎn),而臺積電、三星、英特爾等晶圓生產(chǎn)大廠,都有迫切需求,因此這個(gè)市場出現(xiàn)了供不應(yīng)求的局面。據(jù)businesskorea報(bào)道,三星電子副會長李在镕正敦促ASML的高管盡早交付三星今年訂購的9臺的EUV光刻機(jī)。
最近,據(jù)同花順財(cái)經(jīng)消息, 荷蘭阿斯麥 ASML 首席財(cái)務(wù)官 Roger Dassen 在財(cái)報(bào)會議的視頻采訪中談及了與中芯國際等中國客戶的業(yè)務(wù)情況。
1956年,IBM發(fā)明了第一塊硬盤,其容量僅5M,重量卻高達(dá)1噸。上世紀(jì)五十年代德州儀器(TI)發(fā)明了半導(dǎo)體。隨后,第一個(gè)晶體管、第一個(gè)集成電路、第一個(gè)微處理器都來自美國。
預(yù)計(jì)到明年年底,臺積電正EUV光刻機(jī)的累計(jì)采購量將達(dá)到約55臺。在今年8月舉辦的全球技術(shù)論壇期間,臺積電曾透露,在目前全球在運(yùn)行的極紫外光刻機(jī)中,臺積電擁有約一半,芯片產(chǎn)能預(yù)計(jì)占全球的60%。
9月17日,第23屆中國集成電路制造年會暨2020年廣東集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展論壇在廣州開幕。國內(nèi)半導(dǎo)體知名企業(yè)悉數(shù)亮相,多位企業(yè)家、專家學(xué)者以及科研機(jī)構(gòu)代表近千人參會。對于行業(yè)“卡脖子”問題,與會嘉賓認(rèn)為,國產(chǎn)芯片替代加速,電子產(chǎn)業(yè)市場巨大的粵港澳大灣區(qū)空間更大。
8月21日消息,據(jù)臺灣媒體報(bào)道,半導(dǎo)體行業(yè)光刻系統(tǒng)供應(yīng)商ASML(阿斯麥)的EUV(極紫外光刻)技術(shù)培訓(xùn)中心昨日在臺灣臺南科學(xué)園區(qū)開張,就近服務(wù)第一大客戶臺積電。 ASML ASML的EUV技術(shù)培訓(xùn)
ASML作為全世界最先進(jìn)的光刻機(jī)制造企業(yè),全球高端芯片幾乎都來自于ASML,壟斷了全球的光刻機(jī)市場。臺積電能在芯片領(lǐng)域遙遙領(lǐng)先就是因?yàn)橛蠥SML的光刻機(jī)供應(yīng)。
7 月 15 日消息,據(jù)國外媒體報(bào)道,在處理器等各類芯片的制造過程中,光刻機(jī)至關(guān)重要,目前芯片制造工藝已提升到了 5nm,只有光刻機(jī)制造商阿斯麥的極紫外光刻機(jī)能滿足這一先進(jìn)工藝的要求。阿斯麥極紫外光刻
7 月 15 日消息,據(jù)國外媒體報(bào)道,光刻機(jī)廠商阿斯麥已發(fā)布了二季度的財(cái)報(bào),營收超過 33 億歐元,同比環(huán)比均大幅增長,扭轉(zhuǎn)了一季度大幅下滑的頹勢。阿斯麥的財(cái)報(bào)是在今日發(fā)布的,財(cái)報(bào)顯示在今年二季度,他
ASML股票在1月17日上漲了7%,以199.18收盤,因?yàn)锳SML公布了過去12個(gè)月的季度銷售情況,為30.7億美元,實(shí)現(xiàn)同比增長53%,超過其預(yù)期的25.2億美元。ASML實(shí)現(xiàn)了7.7億美元
日前,中國國際半導(dǎo)體技術(shù)大會(CSTIC)在上海開幕,為期19天,本次會議重點(diǎn)是探討先進(jìn)制造和封裝。 其中,光刻機(jī)一哥ASML(阿斯麥)的研發(fā)副總裁Anthony Yen表示,EUV光刻工具是目前唯一
作為半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)過程中最重要的裝備,光刻機(jī)一直牽動(dòng)人心,制程工藝越先進(jìn)就要離不開先進(jìn)光刻機(jī)。ASML副總裁Anthony Yen日前表態(tài),如果沒有EUV光刻機(jī),那么芯片廠商是造不出7nm以下工藝芯片
今天又是科技板塊回血格局,HIT電池、IPv6、3D攝像頭、PCB、WiFi、氮化鎵、無線充電、邊緣計(jì)算、5G概念年、通訊行業(yè)、IDC等等板塊都成了領(lǐng)漲大軍。 這里不乏一些消息面支撐,例如歐菲光成功研發(fā)了史上最薄的潛望式連續(xù)變焦模組,模組尺寸縮短至5.9毫米。 昨天
提到荷蘭ASML公司,大家都知道他們是全球唯一的EUV光刻機(jī)供應(yīng)商,7nm及以下的工藝生產(chǎn)都要靠他們的設(shè)備。不過ASML不只是光刻機(jī)厲害,今天他們宣布了另外一個(gè)新產(chǎn)品—;—;第一代HMI多光束檢測機(jī)H
據(jù)6月1日消息,荷蘭ASML公司近日在官網(wǎng)宣布,完成了用于5nm及更先進(jìn)工藝的第一代HMI多光束檢測機(jī)HMI eScan1000的測試。
自從美國的新一輪技術(shù)封鎖發(fā)生后,普天之下的吃瓜群眾為華為操碎了心,甚至賣菜的大媽偶爾討論這件事。由此可見,半導(dǎo)體對國家科技、工業(yè)的影響有多大。 半導(dǎo)體制造產(chǎn)業(yè)中,光刻機(jī)是核心設(shè)備,對芯片的工藝制程起了決定性作用。光刻也是半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)流程中
極紫外光刻(Extreme Ultra-violet),常常被稱作EUV光刻。光刻機(jī)決定著半導(dǎo)體工藝的制程工藝,7nm以及以上的工藝離不開EUV光刻機(jī),EUV光刻技術(shù)使晶體管密度和性能都變得更好。因而EUV光刻機(jī)成為眾多半導(dǎo)體廠商的心頭之好。