三星最新的QLC V-NAND綜合采用了多項(xiàng)突破性技術(shù),其中通道孔蝕刻技術(shù)能基于雙堆棧架構(gòu)實(shí)現(xiàn)最高單元層數(shù) 推出的三星首批QLC和TLC第九代V-NAND,為各種AI應(yīng)用提供優(yōu)質(zhì)內(nèi)存解決方案 深圳2024年9月12日 /美通社/ -- 三星電子今日宣布,三星首款1太比...
存儲器是單片機(jī)的又一個重要組成部分,存儲容量為256個單元的存儲器結(jié)構(gòu)中每個存儲單元對應(yīng)一個地址,256個單元共有256個地址,用兩位16進(jìn)制數(shù)表示,即存儲器的地址(00H~FFH)。存儲器中每個存儲單元可存放一個八位二進(jìn)制信息,通常用兩位16進(jìn)制數(shù)來表示,這就是存儲器的內(nèi)容。存儲器的存儲單元地址和存儲單元的內(nèi)容是不同的兩個概念,不能混淆。
快速讀寫快速頁式工作技術(shù)(動態(tài)存儲器的快速讀寫技術(shù)):讀寫動態(tài)存儲器同一行的數(shù)據(jù)時,其行地址第一次讀寫時鎖定后保持不變,以后讀寫該行多列中的數(shù)據(jù)時,僅鎖存列地址即可,省去了鎖存行地址的時間,加快了主存儲器的讀寫速度。
存儲單位:在存儲器中有大量的存儲元,把它們按相同的位劃分為組,組內(nèi)所有的存儲元同時進(jìn)行讀出或?qū)懭氩僮?,這樣的一組存儲元稱為一個存儲單元。一個存儲單元通常可以存放一個字節(jié);存儲單元是CPU訪問存儲器的基本單位。
高級人工智能所需算力每三個半月就會翻一番 算法、數(shù)據(jù)和算力被視為推動人工智能發(fā)展的三大要素,其中算力更是被形容為支撐人工智能走向應(yīng)用的“發(fā)動機(jī)”。人工智能研究組織OpenAI最近指出,“
物聯(lián)傳媒本文作者:露西Gartner曾預(yù)測,到2021年,40%的大型企業(yè)會將邊緣計(jì)算、存儲與分析納入項(xiàng)目范圍,而2017年這一比例僅為不到1%。時代的變化讓這兩個數(shù)據(jù)差異如此之大。如今5G已至,新基建加持,未來將有數(shù)百億的智能終端聯(lián)網(wǎng),全球存儲空間恐將告急的擔(dān)憂已經(jīng)開始出現(xiàn)。但...
這是你的個人電腦,里面的硬盤則是你的命根子,藏著你多年以來積累的文檔、照片、視頻和游戲。
設(shè)內(nèi)部RAM(30H)=5AH,(5AH)=40H,(40H)=00H,端口P1=7FH,問執(zhí)行下列指令后,各有關(guān)存儲單元(即R0,R1,A,B,P1,30H,40H及5AH單元)的內(nèi)容如何?MOVR0,#30H;R0=30HMOVA,@R0;A=5AHMOVR1,A;R1=5AHMOVB,R1;B=
在嵌入式系統(tǒng)設(shè)計(jì)過程中,系統(tǒng)的掉電保護(hù)越來越受到重視。本文介紹的方法是在用ARM7系列芯片S3C4510B和μClinux構(gòu)建的嵌入式平臺上實(shí)現(xiàn)的。整個掉電保護(hù)實(shí)現(xiàn)的基本思路是
介紹SDRAM電路設(shè)計(jì)之前先了解下SDRAM的尋址原理。SDRAM內(nèi)部是一個存儲陣列,可以把它想象成一個表格,和表格的檢索原理一樣,先指定行,再指定列,就可以準(zhǔn)確找到所需要的存儲單元,這是內(nèi)存芯片尋址
近日消息,三星電子宣布已經(jīng)開始量產(chǎn)用于固態(tài)硬盤的業(yè)內(nèi)首個3bit MLC 3D V-NAND閃存。 三星電子存儲芯片營銷部門負(fù)責(zé)人韓宰洙高級副總裁表示:“通過推出一條全新的高性能高密度固態(tài)硬盤產(chǎn)品線,我們相信3bit V
加州大學(xué)和微軟的研究發(fā)現(xiàn),隨著芯片尺寸縮小,NAND Flash記憶體會出現(xiàn)顯著的性能退化。當(dāng)電路尺寸從今天的25nm縮小到6.5nm,SSD的延遲會增加一倍。加州大學(xué)的研究生Laura
項(xiàng)目背景及可行性分析項(xiàng)目名稱:基于FPGA低成本數(shù)字芯片自動測試儀的研發(fā)研究目的:應(yīng)用VertexⅡ Pro 開發(fā)板系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)對Flash存儲器的功能測試。研究背景:隨著電路復(fù)雜程度
電能表經(jīng)過一個世紀(jì)多的演進(jìn):由機(jī)械式電表到今日的各種不同型式的電子電能表,包含新的預(yù)付費(fèi)電能表 復(fù)費(fèi)率電能表以及具有雙向通訊能力的電子式電能表等,其提供的擴(kuò)展功
進(jìn)一步擴(kuò)大先進(jìn)低功耗 SRAM 產(chǎn)品陣營采用 110 納米工藝技術(shù)實(shí)現(xiàn)高軟錯誤免疫能力2013年9月24日,日本東京訊—全球領(lǐng)先的半導(dǎo)體及解決方案供應(yīng)商瑞薩電子株式會社(TSE:
晶圓制造服務(wù)公司上海宏力半導(dǎo)體制造有限公司(以下簡稱“宏力半導(dǎo)體”)與國內(nèi)主要的智能卡設(shè)計(jì)公司之一,北京同方微電子有限公司(以下簡稱“同方微電子”)共同宣布, 同方微電子采用宏力半導(dǎo)體0.13微米微縮版嵌入
軟誤差率(SER)問題是于上個世紀(jì)70年代后期作為一項(xiàng)存儲器數(shù)據(jù)課題而受到人們的廣泛關(guān)注的,當(dāng)時DRAM開始呈現(xiàn)出隨機(jī)故障的征兆。隨著工藝幾何尺寸的不斷縮小,引起失調(diào)所需的臨界電荷的減少速度要比存儲單元中的電荷聚
鐵電存儲器的技術(shù)特點(diǎn)簡介
ARM指令里幾個特殊符號
存儲器數(shù)據(jù)的軟誤差率(SER)問題介紹