近幾年來,“中國空芯化”問題引起社會關(guān)注。據(jù)統(tǒng)計,芯片年進口額近2000億美元。芯片是手機、電腦、汽車、家用電器等產(chǎn)品的“大腦”,而以芯片為主的集成電路80%的需求量依賴進口。如果“大腦”的控制權(quán)不在我們手中
慕容素娟 近幾年來,“中國空芯化”問題引起社會關(guān)注。據(jù)統(tǒng)計,芯片年進口額近2000億美元。芯片是手機、電腦、汽車、家用電器等產(chǎn)品的“大腦”,而以芯片為主的集成電路80%的需求量依賴進口。如果“大腦”的控制權(quán)
□本報記者 傅豪碩貝德(300322)公告,公司擬利用自有資金6300萬元,與蘇州市澄和創(chuàng)業(yè)投資有限公司等共同向蘇州科陽光電科技有限公司增資,在科陽光電原有在建廠房基礎(chǔ)上進行改造升級,建設(shè)半導(dǎo)體集成電路3D先進封裝
臺積(2330)法說將于明(17日)登場,除Q4營收的季減幅度外,明年的資本支出(CAPEX)再度成為市場關(guān)注焦點。對此,外資大和(Daiwa)出具最新報告指出,看好臺積因南科Fab 14的20/16奈米制程擴產(chǎn)腳步不停歇,加上持續(xù)投入資
近年來,以智能型手機為代表的行動裝置產(chǎn)品在市場上的需求迅速地擴大,這些小型化、多功能產(chǎn)品的發(fā)展十分顯著。隨著這些發(fā)展,因應(yīng)小型化、窄間距化、多針化的封裝電子零件制造要求也應(yīng)運而生。為了滿足這些需求,發(fā)
近年來,以智慧型手機為代表的行動裝置產(chǎn)品在市場上的需求迅速地擴大,這些小型化、多功能產(chǎn)品的發(fā)展十分顯著。隨著這些發(fā)展,因應(yīng)小型化、窄間距化、多針化的封裝電子零件制造要求也應(yīng)運而生。 為了滿足這些需求
半導(dǎo)體業(yè)已經(jīng)邁入14nm制程,2014年開始量產(chǎn)。如果從工藝制程節(jié)點來說,傳統(tǒng)的光學(xué)光刻193nm浸液式采用兩次或者四次圖形曝光(DP)技術(shù)可能達到10nm,這意味著如果EUV技術(shù)再次推遲應(yīng)用,到2015年制程將暫時在10nm徘徊。
半導(dǎo)體業(yè)已經(jīng)邁入14nm制程,2014年開始量產(chǎn)。如果從工藝制程節(jié)點來說,傳統(tǒng)的光學(xué)光刻193nm浸液式采用兩次或者四次圖形曝光(DP)技術(shù)可能達到10nm,這意味著如果EUV技術(shù)再次推遲應(yīng)用,到2015年制程將暫時在10nm徘徊。
半導(dǎo)體業(yè)已經(jīng)邁入14nm制程,2014年開始量產(chǎn)。如果從工藝制程節(jié)點來說,傳統(tǒng)的光學(xué)光刻193nm浸液式采用兩次或者四次圖形曝光(DP)技術(shù)可能達到10nm,這意味著如果EUV技術(shù)再次推遲應(yīng)用,到2015年制程將暫時在10nm徘徊。
半導(dǎo)體業(yè)已經(jīng)邁入14nm制程,2014年開始量產(chǎn)。如果從工藝制程節(jié)點來說,傳統(tǒng)的光學(xué)光刻193nm浸液式采用兩次或者四次圖形曝光(DP)技術(shù)可能達到10nm,這意味著如果EUV技術(shù)再次推遲應(yīng)用,到2015年制程將暫時在10nm徘徊。
半導(dǎo)體業(yè)已經(jīng)邁入14nm制程,2014年開始量產(chǎn)。如果從工藝制程節(jié)點來說,傳統(tǒng)的光學(xué)光刻193nm浸液式采用兩次或者四次圖形曝光(DP)技術(shù)可能達到10nm,這意味著如果EUV技術(shù)再次推遲應(yīng)用,到2015年制程將暫時在10nm徘徊。
長久以來,晶片封裝材料產(chǎn)業(yè)多為國際大廠所把持,隨著3D IC封裝制程逐步成熟,也為臺系封裝材料廠商開辟了新的機會。工研院IEK產(chǎn)業(yè)分析師張致吉指出,國產(chǎn)的半導(dǎo)體封裝設(shè)備與材料產(chǎn)業(yè)邁入新的封裝技術(shù)領(lǐng)域,前期可采
我國芯片制造代工業(yè)由于技術(shù)和投資的瓶頸,已落后于我國集成電路設(shè)計業(yè)快速發(fā)展的步伐,無法充分滿足國內(nèi)芯片代工市場的需求。芯片制造業(yè)、封裝業(yè)的另一個迫切問題是如何轉(zhuǎn)型升級。東部沿海制造、封裝企業(yè)在喪失地域
我國芯片制造代工業(yè)由于技術(shù)和投資的瓶頸,已落后于我國集成電路設(shè)計業(yè)快速發(fā)展的步伐,無法充分滿足國內(nèi)芯片代工市場的需求。芯片制造業(yè)、封裝業(yè)的另一個迫切問題是如何轉(zhuǎn)型升級。東部沿海制造、封裝企業(yè)在喪失地域
核心提示 展望2013年,全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)增速將周期性回升,隨著國發(fā)4號文實施細則的逐步出臺及落實,我國集成電路產(chǎn)業(yè)進入深度轉(zhuǎn)型時期,產(chǎn)業(yè)發(fā)展將以調(diào)結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)方向為重點,產(chǎn)業(yè)規(guī)模增長速度將企穩(wěn)回升。但隨著國際
我國芯片制造代工業(yè)由于技術(shù)和投資的瓶頸,已落后于我國集成電路設(shè)計業(yè)快速發(fā)展的步伐,無法充分滿足國內(nèi)芯片代工市場的需求。芯片制造業(yè)、封裝業(yè)的另一個迫切問題是如何轉(zhuǎn)型升級。東部沿海制造、封裝企業(yè)在喪失地域
隨著移動電話等電子器件的不斷飛速增長,這些器件中安裝在有限襯底面積上的半導(dǎo)體封裝也逐漸變小變薄。3D封裝對減少裝配面積非常有效。此外,系統(tǒng)級封裝(SiP)技術(shù)(將二個或多個芯片安裝在一個封裝件中)對于提高處理速
半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)邁入20nm以下制程后,不但封測技術(shù)愈加困難、投資門坎也愈來愈高,IC封測龍頭廠日月光(2311)營運長吳田玉表示,臺積電(2330)本身就是看到這一點,才積極投入2.5D及3D IC封裝技術(shù),不過雙方將不會形成直
【楊喻斐╱臺北報導(dǎo)】半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)邁入20奈米以下制程后,不但封測技術(shù)愈加困難、投資門檻也愈來愈高,IC封測龍頭廠日月光(2311)營運長吳田玉表示,臺積電(2330)本身就是看到這一點,才積極投入2.5D及3D IC封裝技術(shù)
未來幾年,F(xiàn)PGA融合架構(gòu)的演進還在持續(xù),而這需硬件和軟件的“鼎力相助”。MishaBurich指出,3D封裝和OpenCL將是關(guān)鍵支撐技術(shù)。日前,Altera宣布采用TSMC的CoWoS(基底晶圓芯片生產(chǎn))技術(shù),開發(fā)出全球首顆能